离子浓度喷射控制器 RU-1000

概要

集合HORIBA的光学技术及HORIBA STEC的气体控制技术,研发出一款先进的等离子体控制产品。

  • 通过控制过渡区实现更快的沉积
  • 优化在高功率的腔体内等离子的分布
  • 稳定在长时间喷射工艺中的等离子(稳定沉积)
  • 优化化合物的混合物反应溅射

离子浓度喷射控制器 RU-1000在大面积基板上实现了杰出的等离子空间分布沉积

反应溅射是一种用于触控板上的薄膜沉积工艺,作用于薄膜和玻璃基片。这种工艺是通过喷溅出的离子与氧气或氮气或其他气体在真空腔体内的化学反应用来形成沉积膜。然而实际应用时,在恒定容积内供给活性气体,考虑到形成沉积膜过程非常缓慢,这项制程被认为是十分困难的。此外加快薄膜沉积的生成也是非常不稳定的,在过渡带的反应模式和金属模式之间,后者能加快薄膜沉积。这样的过渡带可用于维护和控制反应气体。通过调整等离子浓度的强度以实现等离子的强度及电源供应。

RU-1000电离浓度控制器优化薄膜沉积, 并实现大尺寸基板镀膜的沉积均匀性. RU-1000采集电离电源信号及电离浓度信号, 利用HORIBA STEC开发的循环控制算法输出流量控制信号到同样由我司开发的高精度快速响应MFC。

控制活性气体的流量以维护金属模式与反应模式之间的过渡区。

优势

快速可靠的反馈控制

离子浓度喷射控制器 RU-1000搭载最新研发的改进算式实现快速可靠的反馈控制。客户可更改PID值,实现客户定制优化。

杰出的S/N等离子体喷射特性

优化瞄准仪,以及光学零件实现精准测量等离子喷射量的微量变化

用户友好软件

定制的软件设计方便用户使用,定制软件也可以根据客户需求制作。

*根据2014年HORIBA STEC 的调查

 

 

特征

从等离子喷射监测到气体流量,都由HORIBA STEC最新控制技术所引领。

  • 在特定的波长下监测等离子体喷射强度

PMT单元的设计是为了捕获等离子体喷射,可直接安装在真空腔体内。通过光纤,等离子喷射可通过真空腔传导至PMT单元。同样也可以根据客户的需求设定安装方位。

  • MFC反馈控制

一台控制器可控制多达4单元的PMT以及4颗MFC。从等离子电源输出的信号可以被捕捉,以替代从PMT输出的信号

  • 支持多种电极条件

由HORIBA设计的初始计算法则实现了杰出的Al2O3反应溅射。软件的设计同样证明了旋转阴极的稳定性。

  • 快速响应以改变等离子喷射

配备一款快速响应的MFC是对控制反应气体的必要措施,尤其当监测改变等离子喷射强度。HORIBA STEC的MFC在半导体制造业中占有巨大的市场份额,提供最好的MFC给每一款系统。

*根据2014年HORIBA STEC 的调查

 

 


制造: HORIBA STEC

規格

Main controller unit RU-1000

Main controller unit RU-1000

Input signal

Ethernet(10BASE-T,100BASE-TX) 1CH
The monitor signal of PMT, or the monitor signal of the power supply
for sputtering (0-10Vdc/0-100%) 4CH
MFC output signal (0-5Vdc/0-100%) 4CH

Output signal

PMT Gain setting signal (0-5Vdc/0-100%) 4CH
MFC setting signal (0-5Vdc/0-100%) 4CH

Power supply

AC100~240V±10% 50/60Hz 100VA

Weight

Approx. 5.3kg

PMT unit RU-1000P

 PMT unti RU-1000p 

Input signal

Plasma emission, PMT gain(0-5V)

Output signal

PMT output signal (0-10Vdc)

Power supply

DC15V 60mA

Other

A narrowband filter can be attached with the inside of PMT.

Weight

Approx. 720g

Collimator RU-1000C-01/02 

A category temperature range and the humidity range.

10-300℃, 10-80%RH

Material

Collimator : SUS304 Window lens : synthetic fused silica glass

Weight

Approx. 150g

The diameter of a collimator tip

φ12

 Flange for PMT unit RU-1000F-01/02

A category temperature range and the humidity range.

10-200℃, 10-80%RH

Weight

Normal Type : Approx. 100g
Direct connection type : Approx. 160g
(Flange type : In the case of KF25)

Cable RU-1000H 

Name

Type

Narrowband filter Set

RU-1000B
The User specifies center wave length.

Cable for SIG (1M)

RU-1000H-02-01

Cable for SIG (2M)

RU-1000H-02-02

Cable for SIG (3M)

RU-1000H-02-03

Cable for SIG (5M)

RU-1000H-02-05

Cable for SIG (10M)

RU-1000H-02-10

Name

Type

Cable for PMT(1M)

RU-1000H-01-01

Cable for PMT(2M)

RU-1000H-01-02

Cable for PMT(3M)

RU-1000H-01-03

Cable for PMT(5M)

RU-1000H-01-05

Cable for PMT(10M)

RU-1000H-01-10

Optical fiber RU-1000 O

Name

Type

Optical fiber for PMT(0.5M)

RU-1000O-005

Optical fiber for PMT(1M)

RU-1000O-010

Optical fiber for PMT(1.5M)

RU-1000O-015

Optical fiber for PMT(2M)

RU-1000O-020

 

 

应用

真空腔体内的条件控制

利用溅镀原理制备功能薄膜或基板需要长时间的连续制程,为实现稳定的镀膜工艺,需要实时监测真空反应腔体内部的条件变化和电离浓度的变化. 同时,根据变化程度的不同,调节导入腔体的各种反应气体的流量大小.所有多层镀膜工艺都需要根据基板传输速率加强沉积速率的控制. RU-1000监控电离电源的阻抗信号和电离辐射强度, 根据检测结果反馈到MFC的控制信号,实现对电离浓度的稳定控制,从而提高生产力。

流量控制及等离子体工艺优化

此系统是用来测量和控制真空腔内的条件,已确保稳定的生产,推动产能同时维持最佳的溅射工艺。

残余气体分析仪

一款监测腔体内残余气体的系统。

此款轻便型残余气体分析仪系统可简单方便的安装进客户正在使用的镀膜系统中。额外的特点包括可与多台PC相连接,软件分析腔体内的气体情况。

液体源汽化系统 VC系列

一款可汽化水或其他液体源,并可搭载至沉积工艺上。我们坚信,通过增加追溯水汽(H2O)控制,可提供沉积工艺中薄膜的功能性。

等离子体喷射分析仪器 EV-140C系列

一款在沉积工艺中分析等离子喷射的系统。CCD监测仪可同时监测大范围波长,从200到800nm、捕获时间最快仅需20 毫秒,最大分辨率为2nm。