HORIBA拥有多种分析、控制、评估技术以应对半导体制造业对工艺规格的严格要求。

HORIBA充分利用自身在FPD领域的科技。这些科技提供给不同工艺制造过程中的技术支持,包括气体和液体药物成分,光掩模上颗粒物监测,薄膜监测。这些技术同样可以应用于高性能分析及控制设备以支持PDPs的研发,有机EL,FEDs以及FPD领域的多样化的发展。

FPD Process

相关产品

如下展示了不同阶段的FPD制造工艺过程。请点击各个阶段的链接以了解我们产品。

去离子水分析/废水监测

Highly Sensitive Silica Monitor SLIA-300

用于超纯水的二氧化硅分析,具有小巧且高灵敏度的新性能。

 

 

 

材料分析

GD-Profiler

GD-Profiler 2™提供了快速、同时分析所有感兴趣的元素,包括氮、氧、氢和氯。是薄膜描述和工艺研究的理想工具。

 

LabRAM HR Evolution Raman Microscope

具有优越的性能和灵活性,包括全自动及一系列可选附件。

XGT-7200

单点分析以及自动球面成像.

双真空管模式.

光斑尺寸自1.2 mm 到 10 µm.

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液体控制

气体浓度监测

Vapor Concentration Monitor IR-300

In-line compact vapor concentration monitor, enables MOCVD precursor delivery to be stable.

工艺气体监测

小型工艺气体分析仪 MICROPOLE系统

世界上最小的完全的质谱仪系统

薄膜控制/分析

Optical Emission Spectroscopy Etching End-point Monitor EV-140C

这是一套分析放射性发光的终点监测设备,专为以等离子技术为基础的半导体薄膜制程进行终点检定或等离子条件的监控而研制。最新的数学模型技术赋予它通过捕获微弱信号的变化进行终点检定的能力。在放射性发光中捕获微弱变化的能力显著地提高了灵敏度。对于抗干扰性的改善确保了本设备在复杂环境下持续不停的生产线上获得高稳定的运行。

New Uvisel 2

HORIBA科学仪器事业部推出了新一代研究级光谱型椭圆偏振光谱仪,它具有最高的精确度、重复性、灵敏度,且具备独一无二的功能特性,是用于表征纳米和微米膜层的有力工具。UVISEL 2具有完备的全自动特性,操作简单、快速,可广泛应用于各类现有及新兴领域。

CMP工艺

LA-960激光粒度仪

LA-960采用米氏散射(激光衍射)理论检测悬浮液或干粉的粒度。该技术的快速测量和简单操作等特点使它得到广泛应用。