如今半导体成为工业进化中的核心部件。HORIBA始终聚焦于半导体的微观世界。HORIBA各个领域的专家学者们始终致力于不同行业的工程项目研究,诸如评估和分析、超纯水的纯度、气液体的成分,更广泛地说即环保和安全。伴随HORIBA明确针对全工艺流程的目标,我们已成功开发了一系列的分析设备,液体控制和监测系统已适应半导体制程中每一步工艺所需的严格质量控制需求。在制程的整个阶段,从材料分析到最终检查,HORIBA产品能始终帮助客户在高精尖端的电子器件制程达到高效能。

Semiconductor Manufactuing Process

相关产品

以下您可以看到不同阶段的半导体制程工艺。请点击每个步骤以便更清晰了解每个工艺制程中所需的产品。

材料分析

PHOTOLUMINOR-D

Silicon crystal is widely used in semiconductors. The PHOTOLUMINOR-D has been designed especially for quantitative impurity analysis of silicon crystals with high sensitivity.

The application of photoluminescence for the quality...

光刻工艺

PR-PD2HR Particle detection system

超精度检测,可至0.35µm , 适用于检测Chrome, glass 以及 Pellicle表面

HORIBA's PR-PD2 Particle Detection System

PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面(Pattern Surface)上的最小粒径为0.35μm。并且通过线&空间1.0〜1.5μm的图案识别功能,可以把检测误差抑制在最低限度。

Compact Reticle/Mask Particle Detection System PR-PD3

外形小巧、运营成本低、应用范围广

HORIBA的PD系列产品运转效率高,具有长期稳定性,受到众多半导体制造工厂的高度评价。继承了各个结构简单、长期稳定运转的搬运系统,高通过量、可靠性高的光学系统,以及具有防误测功能等高性能设备并巧妙组合成一个整体的产品就是PR-PD3。和以往的机型(PR-PD2)相比,它的外形尺寸小了约1/2,追求低运营成本。检测灵敏度达到0.5μm,具有广泛通用性。诞生了可以用来满足光掩模(reticle/mask)上异物检测这一广泛需求的简便装置。

 

PR-PD5 Particle detection system

实用,低操作成本及广泛的应用性,适用于 glass, chrome and pellicle各表面的检测

Reticle/Mask Particle Remover RP-1

在光刻工序前以常规方式通过喷气(空气及氮气)及真空吸附方式自动祛除颗粒物。

去离子水分析

2-channel Carbon Sensor Resistivity Meter HE-960RW-GC(W)

HE-960RW-GC可连接两个传感器并可同时进行测量。

一台变换器可同时进行高性能高精度地测量和输出2个不同位置的电阻率。

Dissolved Oxygen Monitor SD-300

便携式高灵敏度 使用方便,性能高效

 

 

Highly Sensitive Silica Monitor SLIA-300

用于超纯水的二氧化硅分析,具有小巧且高灵敏度的新性能。

 

 

 

材料分析(颗粒物分析以及缺陷分析)

GD-Profiler

GD-Profiler 2™提供了快速、同时分析所有感兴趣的元素,包括氮、氧、氢和氯。是薄膜描述和工艺研究的理想工具。

 

LabRAM HR Evolution Raman Microscope

具有优越的性能和灵活性,包括全自动及一系列可选附件。

XGT-7200

单点分析以及自动球面成像.

双真空管模式.

光斑尺寸自1.2 mm 到 10 µm.

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气体控制

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气体浓度监测

过程气体控制

小型工艺气体分析仪 MICROPOLE系统

世界上最小的完全的质谱仪系统

薄膜分析/控制

New Uvisel 2

HORIBA科学仪器事业部推出了新一代研究级光谱型椭圆偏振光谱仪,它具有最高的精确度、重复性、灵敏度,且具备独一无二的功能特性,是用于表征纳米和微米膜层的有力工具。UVISEL 2具有完备的全自动特性,操作简单、快速,可广泛应用于各类现有及新兴领域。

CMP工艺

LA-960激光粒度仪

LA-960采用米氏散射(激光衍射)理论检测悬浮液或干粉的粒度。该技术的快速测量和简单操作等特点使它得到广泛应用。