GD-Profiler 2™

概要

 GD-Profiler 2™提供了快速、同时分析所有感兴趣的元素,包括氮、氧、氢和氯。是薄膜描述和工艺研究的理想工具。

配有RF光源,可以在脉冲模式下检测易碎的样品,GD-Profiler 2™的应用范围从对腐蚀的研究到PVD涂层的工艺控制,在大学被广泛用于常规的金属和合金产品的研究。

特征

  • RF射频发生器- 标准配置,符合E级标准,稳定性高,溅射束斑极为平坦,等离子体稳定时间极短,表面信息无任何失真。

  • 脉冲工作模式既可分析常见的涂、镀层和薄膜,也可以很好的分析热传导性能差和热易碎的涂、镀层和薄膜。

  • 多道(同时)型光学系统可全谱覆盖,光谱范围:110nm至800nm,包含远紫外,可分析C, H, O, N, Cl

  • HORIBA Jobin Yvon 的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器有最大光通量,因而有最高的光效率和灵敏度

  • 专利HDD® 检测器可进行快速而高灵敏的检测,动态范围达到10个量级

  • 宽大的样品室方便各类样品的加载

  • 功能强大的QUANTUMT XP软件可以多种格式灵活方便的输出检测报告

  • 激光指点器(CenterLite laser pointer,专利申请中)可用于精确加载样品

  • HORIBA Jobin Yvon独有的单色仪(选配件)可极大的提高仪器的灵活性,可同时测定N+1个元素


制造: HORIBA Scientific

产品相关图及其它

GD-Profiler Schematic

样本

样本