光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统 PR-PD2

概要

PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面(Pattern Surface)上的最小粒径为0.35μm。并且通过线&空间1.0〜1.5μm的图案识别功能,可以把检测误差抑制在最低限度。

特征

  • 0.35μm的检测灵敏度,90%的检测率。
  • 操作灵活的菜单便于使用。
  • 最多可直接从多级分类器内的光掩模盒中装载10片光掩模。
  • 可直接观察玻璃(Glass)面和图案(Pattern)面。
  • 便利的数据管理便于制做报告。
  • 新信号处理方式有利于减少检测错误。
  • 使用环境,图案表面上的污染物的最小可测粒径为0.35μm。
    通过光掩模宽度1.5μm、线间1.5μm的图案判别功能,可以把检测误差抑制在最小限度内。 

应用

在下列工艺中,可以用于细微异物的检测中。

光掩模制造工艺
1)光掩模坯件上的异物检测
2)EB中描画・清洗后的图案/玻璃面的异物检测
3)表膜粘贴后的图案/玻璃/表膜各面的异物检测
4)粘贴前表膜单体的异物检测(可选件功能)

曝光工艺
1)光掩模的接收检査(入库检查)
2)曝光前的光掩模例行程序的异物检测(工艺管理)
3)光掩模的定期异物检测(工艺管理)

优点

在图案面,0.35μm的异物检测灵敏度
高速过量地检测图案/玻璃/表膜各面
带有上下面异物观察功能(观察倍率多级切换)
可应用于各种缩小投影型曝光装置盒(适用于多级曝光装置盒:最大可达到10级)
各种各样的检査条件设定功能和简便的检测操作
内置数据管理功能,可以输出各种各样的报告。
支持GEM通信功能(顾客要求的功能 可选件)
高可靠性、低运营成本


制造: HORIBA

規格

测量原理

在本装置中,异物的测量原理是激光散射方式。激光如果照射到异物上,就会发生散射,通过对这种散射光强度进行检测,就可以检测出异物。利用电流镜对整个检査面激光扫描,检测散射光的强度。激光也可随着光掩模上的图案而发生散射,但是在异物和图案中,散乱光的偏光特性不一样,所以可在光学系统中插入偏光元件,对二者进行辨别。

此外,我们注意到在异物和图案中信号存在差别,利用独自开发出来的低通滤光器提高辨别效率。而且,由于光的波长越短则散乱强度会越强,所以在本装置中,采用了氩激光(488nm),以谋求实现高灵敏度化。通过这些革新技术改良,以前由于会导致误测而被视作困难的相移掩模(半色调掩模)以及OPC

规格

测量原理

偏振激光散射方式

监测对象

带表膜(Pellicle)或者没有表膜的光掩模

检测器

光电子倍增器

光源

氩激光488 nm, 10 mW

可测最小粒径

图案(Pattern)面:0.35μm
玻璃(Glass)面:5.0μm
表膜(Pellicle)面:10.0μm

检测率

0.35μm微粒子 标准模式:90% 5-监测整合模式:93%以上)

检测范围

5英寸:最大 105x110
6英寸:最大 127x139 mm
7英寸:最大 160x160 mm
带有表膜的时候:自表膜边框内侧开始4mm以内

装置重量

约1000Kg

装置外寸

1710 (W) x 1540 (H) x 1400* (D) mm
*最大宽度包括状态指示灯和输送管道

电源容量

AC200/220/230/240±10V、4 KVA 50/60Hz

 

应用(设置构成