FPD制程

纯水分析 (湿制法)

Highly Sensitive Silica Monitor SLIA-300

材料分析(微粒子分析& 缺陷解析)

EX-250/350/450 能量分散型X射线分析装置

与电子显微镜组合在一起，最适合用于微小区域的夹杂物解析、组成分析。装备有支持整个分析业务流程图形式的导航系统。高级功能便于使用——今后的X射线分析装置。

XGT-5000 X射线分析显微镜

单点分析以及自动成像.

正常大气压力下分析

光斑尺寸自1.2 mm 到 10 µm.

GD-Profiler

GD-Profiler 2™提供了快速、同时分析所有感兴趣的元素，包括氮、氧、氢和氯。是薄膜描述和工艺研究的理想工具。

药液分析(湿制法)

SPM监测仪 CS-150

CS-150是半导体制造中清洗工艺的SPM溶液用于高精度药液浓度的监测仪，实现了过去所没有的高速响应性和小巧化。可以实时检测金属离子以及有机物的清除作业中所使用的SPM溶液(H2SO4/H2O2/H2O)各成分浓度，通过报警信号通知自动补给的时间。由于实现了高速响应性和短的检测周期，可以忠实地跟踪浓度变化，并且，由于小巧化设计，可以更容易组装到清洗装置中。

BHF浓度计 CS-137

CS-137高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的BHF溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测硅氧化膜的蚀刻以及晶片表面的微粒清除作业时所使用的BHF溶液(NH4F/HF/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制，可以确保BHF溶液的浓度保持在允许范围内，同时，还可以避免不必要的药液更换工作。

TMAH/H2O2浓度计，CS-139E

高速响应、小型化的化学药液浓度计,TMAH/H2O2药液浓度计是单晶圆和批次式清洗设备的理想之选

在线型溶解臭氧监测仪

监测半导体制造工艺中清洗、形成氧化膜等作业中所使用的臭氧水浓度。它是直接安装在主配管中、可以进行连续监测的臭氧水浓度监测仪。不需要用旁通管路来进行检测。本产品通过臭氧发生装置以及对使用点进行近似测量。

碳质探头电阻率计 HE-960R-GC

炭质传感器电阻率计HE-960R-GC — 炭质传感器具有高效的抗药业腐蚀性能，可应用于单槽清洗设备

炭质传感器具有高效的抗药业腐蚀性能，可应用于单槽清洗设备

Carbon Sensor Resistivity Meter HE-960RW-GC

双通道电阻率计 HE-960RW-GC

HE-960RW-GC可连接两个传感器并可同时进行测量。

一台变换器可同时进行高性能高精度地测量和输出2个不同位置的电阻率。

Slim48系列工业用比电阻计 HE-480R

工业用比电阻计HE-480R是具有高精度温度补偿性能的比电阻计。

它最适合于连续监测在半导体领域以及电子・食品・医药品等各种领域的制造工艺中所使用的超纯水。

气体控制/分析 (干制法)

基于多年来引领尖端技术产品的市场发展经验，我们提供了一系列满足客户需求的质量流量计产品。气体被广泛地运用于各种工业领域，从太阳能电池、燃料电池的研究和制造，这一获得巨大关注的再生能源项目得到了全球各地的支持；到半导体、液晶面板和在电子行业中使用的发光二极管（LED）的研究和制造。在这些制造工艺中，对各种气体的流量进行准确的测量和控制显著地提高了工作效率，进而节约了能源和提高了生产力。HORIBA...