半导体制程
Silicon crystal is widely used in semiconductors. The PHOTOLUMINOR-D has been designed especially for quantitative impurity analysis of silicon crystals with high sensitivity.
The application of photoluminescence for the quality...
The PHOTOLUMINOR-S has been designed for R&D in many applications and provides high performance and easy operation. High-sensitivity measurement is important for detecting weak photoluminescence...
MR-VS series are new special instruments for spectrum measurement which employ compact spectrograph and optical fiber.
Easy measurement of cathodoluminescence spectrograph by mounting to SEM.
MP-32S/M requires SEM as excitation source and it can evaluate defects, impurities and crystalline construction in micro region.
PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面(Pattern Surface)上的最小粒径为0.35μm。并且通过线＆空间1.0〜1.5μm的图案识别功能，可以把检测误差抑制在最低限度。
外形小巧、运营成本低、应用范围广
HORIBA的PD系列产品运转效率高，具有长期稳定性，受到众多半导体制造工厂的高度评价。继承了各个结构简单、长期稳定运转的搬运系统，高通过量、可靠性高的光学系统，以及具有防误测功能等高性能设备并巧妙组合成一个整体的产品就是PR-PD3。和以往的机型(PR-PD2)相比，它的外形尺寸小了约1/2，追求低运营成本。检测灵敏度达到0.5μm，具有广泛通用性。诞生了可以用来满足光掩模(reticle/mask)上异物检测这一广泛需求的简便装置。
This resistivity meter is ideal for such applications as the high-precision water monitoring employed at ultra-pure water plants used in semiconductor manufacturing.
They utilize newly designed, high-precision, high-stability temperature measurement circuitry and a vastly improved temperature compensation function, an important element for measuring the resistivity of ultra-pure water.
与电子显微镜组合在一起，最适合用于微小区域的夹杂物解析、组成分析。装备有支持整个分析业务流程图形式的导航系统。高级功能便于使用——今后的X射线分析装置。
CS-152高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的SC-1溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测清除金属离子时所使用的SC-2溶液(HCl/H2O2/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制，可以确保SC-1溶液的浓度保持在允许范围内，同时，还可以避免不必要的药液更换工作。由于测量周期短，可以精确地跟踪浓度变化，小巧化设易于组装到清洗装置中。
CS-150是半导体制造中清洗工艺的SPM溶液用于高精度药液浓度的监测仪，实现了过去所没有的高速响应性和小巧化。可以实时检测金属离子以及有机物的清除作业中所使用的SPM溶液(H2SO4/H2O2/H2O)各成分浓度，通过报警信号通知自动补给的时间。由于实现了高速响应性和短的检测周期，可以忠实地跟踪浓度变化，并且，由于小巧化设计，可以更容易组装到清洗装置中。
CS-137高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的BHF溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测硅氧化膜的蚀刻以及晶片表面的微粒清除作业时所使用的BHF溶液(NH4F/HF/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制，可以确保BHF溶液的浓度保持在允许范围内，同时，还可以避免不必要的药液更换工作。
监测半导体制造工艺中清洗、形成氧化膜等作业中所使用的臭氧水浓度。它是直接安装在主配管中、可以进行连续监测的臭氧水浓度监测仪。不需要用旁通管路来进行检测。本产品通过臭氧发生装置以及对使用点进行近似测量。
工业用比电阻计HE-480R是具有高精度温度补偿性能的比电阻计。
它最适合于连续监测在半导体领域以及电子・食品・医药品等各种领域的制造工艺中所使用的超纯水 。
工业用导电率计 HE-480H是采用了4电极法的高浓度类型导电率计，它可以进行0〜50S/m的宽量程检测。用途广泛，包括各种药液的浓度管理以及水栽液体肥料的浓度管理等 。
The HE-480C industrial conductivity meter is a low-concentration conductivity meter using a two-electrode method.
This is a highly functional model, with high-performance temperature compensation, and is applicable to a wide range of tasks, from managing pure water for use with semiconductors, to managing the quality of boiler water.
通过气液混合气化方式实现液体材料的高效率气化
它最适于各种工艺的生产线压力测量
通过输入压力控制设定信号，可以远程控制生产线压力
内置有高性能压力传感器和压电阀
最适于超清洁类型的工艺生产线
这是一套分析放射性发光的终点监测设备，专为以等离子技术为基础的半导体薄膜制程进行终点检定或等离子条件的监控而研制。最新的数学模型技术赋予它通过捕获微弱信号的变化进行终点检定的能力。在放射性发光中捕获微弱变化的能力显著地提高了灵敏度。对于抗干扰性的改善确保了本设备在复杂环境下持续不停的生产线上获得高稳定的运行。...
产品:
UVISEL VIS: 210-880 nm
UVISEL FUV: 190-880 nm
UVISEL NIR: 245-2100 nm
UVISEL ER: 190-2100 nm
UVISEL VUV: 142-880 nm
测量薄膜厚度和光学常数。用于研究和工艺发展.
Particle size distribution analyzers, which determine both the size of particles and their state of distribution, are used for the production control of powders in such fields as ceramics, chemistry, and foodstuffs. The LA-920,...
以低成本消除“控制”。新型TPNA-300诞生。
在第五次水质总量控制中必须要检测的总氮・总磷。
针对这一新的控制，HORIBA凭借长年环境分析的经验和高的技术能力，提议了维护性以及成本方面均具有优势的紫外线氧化分解法。