Partikel Detektion System

HORIBA bietet die folgenden Particle Detection System zur Spitzenlithografieprozess in der Halbleiterfertigung  Markt , und sie sind weit verbreitet. Diese Produkte erkennen Partikel auf Absehen / Maske mit hohen Betriebs bewertet und Langzeitstabilität  . Sie misst Partikel auf jeder Glas / Fensterflächemit hohem Durchsatz , einen Beitrag Verbesserungen zu erhalten für jede Halbleiter-Fertigungslinie. Wir bieten auch einen Particle -Entferner , die Sie in Verbindung mit dem Particle Detection System verwenden können.

Blanks Maske Partikel Detektion System

Blanks Mask Particle Detection System PR-PD2BLI

High speed and high accuracy inspection for blanks mask

Absehen / Mask Partikel Detektion System

PR-PD2HR Particle detection system

Achieves dramatic cost reductions in advanced mask inspections

HORIBA's PR-PD2 Particle Detection System

High sensitive particle detection down to 0.35µm.

PR-PD5 Particle detection system

For use in combination with Manufacturing Devices. Low-cost reticle/mask particle inspection with enhanced versatility and compactness.

Compact Reticle/Mask Particle Detection System PR-PD3

Low running costs thanks to a compact design, plus remarkable versatility

Absehen / Mask Partikel Detektion Entferner

Reticle/Mask Particle Remover RP-1

Automatically removes particles by blow and vacuum suction