Plasma Verarbeiten Monitor

Für Herstellungsverfahren , bei denen Plasma verwendet wird , bietet HORIBA die in - situ Echtzeit überwacht . Wir haben zwei geeignete Produkte für den Plasmaprozess . Die Optische Emissionsspektroskopie Etching End -Punkt- Monitor kann Endpunkt des Plasmaätzens erkennen. Die Echtzeit interferometrische Process Monitor bietet eine hohe Präzision Erkennung der Filmdicke  und Grabentiefe während der Ätz- und Beschichtungsverfahren.

Optische Emissions spektroskopie Ätzen Endpunkt Monitor

Optical Emission Spectroscopy Etching End-point Monitor EV-140C

Emission analysis type end-point monitor intended for end-point detection or plasma condition control in the plasma-based semiconductor thin-film process.

Echtzeit Interferometrischen Prozess Monitor

Real Time Interferometric Process Monitor LEM-CT-670-G50

Real Time Interferometric Process Monitor provides high precision detection of film thickness and trench depth during the etching/coating process.