La GD-OES RF pulsada es la única técnica analítica que puede realizar al mismo tiempo análisis superficial, perfiles de profundidad y composición elemental. Todo esto con alta sensibilidad en todos los elementos (incluyendo elementos gaseosos), para casi todos los materiales sólidos, incluyendo metales, capas de aleación en metales, semiconductores, capas en polímeros, vidrio etc.

Se basa en un arranque controlado de un área representativa del material de interés y de la detección simultánea de las especies arrancadas.

Como técnica analítica complementa adecuadamente técnicas de XPS y SEM.