マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置(GDS) GD-Profiler2

概要

rf-GD-OES(GDS)分析装置は、Arプラズマにより試料をスパッタリングさせ、スパッタされた原子を原子発光させることで、元素分析を行う、迅速かつ簡単な表面分析装置・深さ方向元素分析装置として、薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの研究開発・生産技術・品質管理の分野において、幅広く活用されています。高周波方式グロー放電を採用しているため、非導電性試料でも表面分析が可能です。

  • 迅速に表面分析がしたい
  • たくさんの試料・検体数の表面分析/深さ方向分析がしたい
  • 定量的な表面分析がしたい

といった、表面分析/深さ方向分析のお悩み・お困りにお応えすることができます。

特長

  • 迅速表面分析が可能!
  • 非導電性材料の表面分析も可能!
  • パルススパッタ(特許)により低ダメージ・高分解能測定が可能!
  • 顕微鏡観察用の前処理・エッチング機としても活用可能!
  • バルク分析(固体材料の定量分析)も可能!

次の機関ではrf-GD-OESを使って有償受託分析事業を展開しています。
東レリサーチセンター様:http://www.toray-research.co.jp/
環境技研リサーチセンター様:http://www.get-c.co.jp/
コベルコ科研様:http://www.kobelcokaken.co.jp/
日鉄住金テクノロジー様:http://www.nsst.nssmc.com/
東芝ナノアナリシス様:http://www.nanoanalysis.co.jp/
なお、弊社分析センター:http://www.horiba.com/jp/scientific/application-center-jp/ においても受託分析を行うこともできます。


製造会社: HORIBA Scientific

仕様

発光部

ランプ型式

マーカス型

試料印加方式

13.56MHz高周波

高周波出力

0-300W(可変)

パルス制御

〈周波数〉1〜100Hz(可変)〈Duty〉5〜50%(可変)

ガス圧力

0〜1000Pa(可変)

アノード径

〈標準〉4mm〈オプション〉1mm、2mm、7mm

クリーニング機構

モータ制御式自動クリーナ

検出部

検出器

光電子増倍管

分析線

〈メイン分光器〉標準20本+追加25本(オプション)

〈サブ分光器〉1本

分析元素

H〜Uまで
ただし、メイン分光器に導入する元素は、別途お打ち合わせが必要となります。

データ取込間隔

最高0.001sec〜

シンクロ測光

パルススパッタ適応時のみ(オプション)

分光部

ポリクロメータ(メイン分光器)
〈標準装備〉

モノクロメータ(サブ分光器)
〈標準装備〉

フラットフィールド・ポリクロメータ
〈オプション〉

マウント型式

パッシェンルンゲ

ツェルニターナ

ポリクロメータ内組込み型

焦点距離

500mm

640mm

回折格子

ブレーズドホログラフィック凹面 グレーティング(刻線密度: 2400本/mm)

ブレーズドホログラフィック平面グレーティング(刻線密度: 2400本/mmもしくは3600本/mmも)

ホログラフィックグレーティング(刻線密度: 1200本/mm)

波長範囲

110〜620nm

165〜780nmもしくは165〜500nm

400〜900nm

実質分解能

0.013〜0.018nm

ソフトウェア

方式

日本語対話方式 Quantum XP

ユーティリティ

本体装置質量

550kg

本体外形寸法

860(W)×1521(D)×1200(H)mm

ユーティリティ

電源

〈本体用〉単相AC 200V 30A
〈制御PC用〉単相AC 100V 10A

周波数

 50/60Hz

ガス

〈スパッタ用ガス〉Ar 
  純度: 99.9999%以上、圧力: 0.4MPa
〈シリンダ駆動用ガス〉N2もしくはエア 
  純度: 問わず、圧力: 0.7MPa
〈パージ用ガス〉N2 
  純度: 99.999%以上(O2<3ppm)
  圧力: 0.2MPa

設置環境

〈温度〉22〜24±2℃
〈湿度〉60%以下

 

 

外形寸法図・他(単位:mm)

860(W)×1521(D)×1200(H)mm

価格は仕様により異なりますので、別途お見積もりいたします。「見積・資料・お問い合わせ」よりお申し込みください。

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