レティクル/マスク異物検査装置 PR-PD3

概要

高い稼働率と長期にわたる安定性で、多くの半導体製造現場から高く評価されているHORIBAの異物検査装置PDシリーズ。そのシンプルで長期安定稼働する搬送系、高スループット、信頼の光学系、さらに誤検出対策機能など高性能の数々を継承し、コンパクトにパッケージングしたのが、レティクル/マスク異物検査装置PR-PD3です。従来機(PR-PD2)と比べて約1/2という小型化を実現するとともに、低ランニングコストを追求。そして0.5μmの検出感度による広い汎用性。レティクル/マスク上の異物測定・異物検査の幅広いニーズにお応えするシンプルな装置が誕生しました。

特長

優れた機能で効果的な異物検査をサポート

  • 従来比1/2の小型設計。
    PR-PD2と比べて、床面積比で1/2という小型化を実現。占有面積が大幅に小さくなったので操作ユニット(オプション)を追加しても自由なレイアウトが可能です。
  • 低ランニングコストを実現。
    レーザ光には抜群の経済性を誇るHe-Neレーザを採用するとともに、シンプルなステージ搬送系を採用するなど、維持費・ランニングコストの大幅な低減を実現しました。
  • 効果的な誤検出対策機能。
    粗いパターン用の偏光差動と微細なパターン用のローパス差の両機能を搭載。この二方法の併用により、OPCなど両方の特性を持つパターンの誤検出対策を効果的に行うことができます。

測定原理

本装置ではレーザ散乱光方式を異物の検出原理としています。レーザ光は異物に照射されると散乱されますが、その散乱強度を測定することにより異物を 検出します。ガルバノミラーにより検査面全体にわたってレーザ光を走査し、散乱光の強度を測定します。レーザ光はレティクルやマスク上のパターンによって も散乱されますが、異物とパターンとでは散乱光の偏光特性が異なることから、光学系に偏光素子を挿入して両者を弁別します。さらに、異物とパターンとでは 信号に差があることに着目し、独自に開発したローパスフィルタにより弁別効率を向上。また、安定稼動のため、実績のあるHe-Neレーザ(633nm)を 採用。これらの技術改良により、先端マスクから汎用マスクまで幅広い対応が可能となりました。
測定原理

価格

価格は仕様により異なりますので、別途お見積もりいたします。
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製造会社: HORIBA

仕様

測定対象

レティクル/マスク上異物検査

測定原理

レーザー散乱方式

測定時間

約7分/2面(5インチレティクルにて測定開始からデータ表示まで)
※ガラス/ペリクル専用高スループット機(約4分/2面)も検討

感度

パターン面 0.5μm、ガラス面 5.0μm、ペリクル面 10.0μm(※PSL相当)

各種レチクルケース対応(種類とレティクルサイズ御注文時指定願います)

HORIBA標準ケース(5、6、7インチ用)および各種メーカ製ステッパ-ケース(5、6インチ用)に対応(いずれか、1サイズ・1種類・1段対応)
※多段ソーター対応は特殊仕様にて別途御相談とさせて頂きます。

データ

モニターマッピング表示

装置サイズ

約W900×D1350×H1590 mm
※上記は想定標準サイズです。ソータ仕様により異なる場合があります。

ユーティリティ

設置環境

クラス100より清浄なクリーンルーム、又はクリーンベンチ内

温度

23±1℃

電源

AC100V、15A、50/60Hz

真空源

圧力8.0x104Pa以上、流量50L/min

外形寸法図・他(単位:mm)

外形寸法図(単位:mm)

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