レティクル/マスク異物検査装置 PR-PD5

概要

PDシリーズの高性能を継承しながら、一層の小型化により、優れたコストパフォーマンスを実現。レティクルストッカやステッパ、洗浄装置などへの組み込みも可能です。

  • レティクル反転機構
  • 0.5ー50μm選択可能
  • 検査系1系統
  • 装置内蔵/組合せ型

特長

優れた機能で効果的な異物検査をサポート

  • 低ランニングコストを実現。
    レーザ光には抜群の経済性を誇るHe-Neレーザを採用するとともに、シンプルなステージ搬送系を採用するなど、維持費・ランニングコストの大幅な低減を実現しました。
  • 効果的な誤検出対策機能。
    粗いパターン用の偏光差動と微細なパターン用のローパス差の両機能を搭載。この二方法の併用により、OPCなど両方の特性を持つパターンの誤検出対策を効果的に行うことができます。
  • 広い汎用性で多彩な用途。
    パターン上0.5μmの異物検出感度により、レティクル/マスク上の異物検出はもちろん、ガラス/ペリクル各面を高スループットで測定します。

    • レティクル/マスク製造工程
      マスク/レティクルブランク上の異物測定
      EBにて描画・洗浄後のパターン/ガラス面の異物測
      ペリクル貼付け後のパターン/ガラス/ペリクル各面の異物測定
      貼付け前のペリクル単体の異物測定(オプション機能)
    • 露光工程
      レティクル/マスクの受入検査
      露光前のレティクル/マスクのルーチン異物測定
      レティクル/マスクの定期的な異物測定

  • 優れた機能で効果的な異物検査をサポート。

    • 自動座標補正機能を搭載。
      3つの透過光電センサを使用してレティクル端面を検出し、フォーク上でのレティクルの位置ずれを自動補正。常にレティクル中心(0,0)、レティクル端面に沿った座標系で結果を表示します。
    • 多機能先端ソフトを採用。
      パターンマスキング機能、異物マーキング機能、データベース管理機能を持つHORIBA独自の多機能ソフトを採用しています。
    • データ管理機能により、多彩なレポートの出力が可能。

測定原理

本装置ではレーザ散乱光方式を異物の検出原理としています。レーザ光は異物に照射されると散乱されますが、その散乱強度を測定することにより異物を検出します。ガルバノミラーにより検査面全体にわたってレーザ光を走査し、散乱光の強度を測定します。レーザ光はレティクルやマスク上のパターンによっても散乱されますが、異物とパターンとでは散乱光の偏光特性が異なることから、光学系に偏光素子を挿入して両者を弁別します。さらに、異物とパターンとでは信号に差があることに着目し、独自に開発したローパスフィルタにより弁別効率を向上。また、安定稼動のため、実績のあるHe-Neレーザ(633nm)を採用。これらの技術改良により、先端マスクから汎用マスクまで幅広い対応が可能となりました。
測定原理

価格

価格は仕様により異なりますので、別途お見積もりいたします。
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製造会社: HORIBA

仕様

測定対象

レティクル/マスク上異物検査

測定原理

レーザー散乱方式

感度

パターン面 0.5μm、ガラス面 5.0μm、ペリクル面 10.0μm(※PSL相当)

データ

モニターマッピング表示

ユーティリティ

設置環境

クラス100より清浄なクリーンルーム、又はクリーンベンチ内

温度

23±1℃

電源

AC100V、10A、50/60Hz

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