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ウェットプロセスにおける硫酸・過酸化水素中のppmレベルのフッ酸濃度管理を実現

半導体製造プロセス向超純水管理用

最高感度0.01μg/L(0.01ppb)で、極低濃度のシリカを測りたいという要求に確実にお答えします

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半導体製造プロセスにおける洗浄、酸化膜形成等に使用されるオゾン水濃度を測定します。主配管に直接取り付けて、連続測定ができるオゾン水濃度モニタです。

工業用pH計 HP-480

使用頻度の高い機能を中心に搭載したスタンダードタイプのpH計です。 工業排水の放流水監視から、各種工業分野における製造工程の監視、品質検査、水産、養殖まで幅広い用途に対応します。

ICP発光分析装置(シーケンシャルシリーズ) JY2000-2

ICP発光分析装置は、鉄やアルミニウムなどの材料から水道水や食品のまで幅広い試料の元素分析が可能です。鉄鉱・非鉄金属、セメント・セラミックス、複合材料、鉱石、土壌、薬品、油(石油)、食品(野菜、肉、米、食用油)、環境...

低濃度HF/HCl/NH3濃度モニタ HF-960M 製品画像

ワンバス洗浄・枚葉洗浄に最適、低濃度のフッ酸・塩酸・アンモニアを高精度に測定

自動水質測定装置 TW-100

HORIBAの自動水質測定装置...

ICP発光分析装置(シーケンシャルシリーズ) ULTIMA2

高感度・高分解能を実現したシーケンシャルICPの最高峰。

ICP発光分析装置(モノクロメータ + ポリクロメータ) ULTIMA2Cシリーズ

ICP発光分析装置ULTIMA-2C、ULTIMA-2C HRはシーケンシャル(モノクロメータ)の波長選択の自由度とマルチ(ポリクロメータ)による同時分析という迅速性を一緒にした理想のコンビネーション装置です。■ICP発光分析装置は、鉄やアルミニウムなどの材料から水道水や食品のまで幅広い試料の元素分析が可能です。鉄鉱・非鉄金属、セメント・セラミックス、複合材料、鉱石、土壌、薬品、油(石油)、食品(野菜、肉、米、食用油)、環境...

工業用多成分水質計 WA-200シリーズ

排水処理場の濁度、電気伝導率、溶存酸素を連続監視する分析計です。排水処理プロセスの現場状況に合わせ、浸漬形・流通形の選択が可能です。洗浄効果のよい平面構造のセンサと、充実した自動洗浄機能との組み合わせにより、メンテナンス性の向上に加え、長期連続運転を可能にしました。活性汚泥処理管理に最適な分析計です。...

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