SEMICON Japan 2010　幕張メッセ

2010年11月 1日

※SEMICON Japan 2010 は終了いたしました。多数のご来場誠にありがとうございました。

 

｢計測と制御｣は、プロセス最適化の鍵。HORIBAは、その運用課題に的確に応える専門性と、万全のサポート体制を整えています。信頼のテクノロジーパートナーとして、世界基準の分析技術とサービスを提供するHORIBA。今日も、明日も、これからも。

出展製品一覧

■Wet Cleaning　ウェット洗浄

 

     

 

この他、堀場製作所、堀場エステック、ホリバ・ジョバンイボンより、成膜＆エッチング、リソグラフィなど、半導体のほか太陽電池やLEDの製造プロセスに最適な製品も多数出展いたします。

◆MOCVD装置における赤外線技術を用いた原料ガス濃度計測

  • 12月1日(水)　13:30-14:20　　Hall 4 ルーム１

MOCVDのガスパネルなどで固体や液体材料を気化させてチャンバへ供給する際に、ガスの濃度を正確にモニタしたいというニーズが高まっています。それに応えるため、小型なNDIR方式のガス濃度モニタを開発しました。NDIRの原理から濃度制御のアプリケーションまで詳しく紹介します。

◆半導体Wet Processの変還と堀場製作所の取り組み

  • 12月2日(木)　14:30-15:20　　Hall 4 ルーム１

半導体薬液洗浄・エッチングプロセスの歩留まり向上とコスト削減への貢献を目指し、堀場製作所が長年取り組んできた薬液濃度計について紹介します。

 

  • SEMICON Japan 2010開催時、ＨＯＲＩＢＡブースにご来場のお客様には抽選で毎日1名様にiPadが当たります。

HORIBA Booth : Booth No. Hall 3,3B-208