プラズマ発光状態のモニタリング、ガス流量制御、ガス分圧モニタリングを組み合わせ、透明導電膜、反射防止膜などの各種コーティングなどの成膜プロセスにおける品質と生産性を向上することができます。

堀場エステックは各プロセスに最適なソリューションを提案いたします。

マスフローコントローラ : 正確なガス流量制御を実現します。
コンパクトプロセスガスモニタ : チャンバ内の微量ガスを計測。 常にベストなプロセス条件になるようモニタリングします。
プラズマコントローラ : プラズマ発光状態を計測し、スパッタ装置への導入ガス流量を自動的に制御します。
キャパシタンスマノメータ : 自己温調型で最小クラス ※当社調べ(2016 年12 月現在)
放射温度計 : 業界最高精度※の装置搭載型非接触放射温度計 ※当社調べ(2016 年12 月現在)

コンパクトプロセスガスモニタ プラズマエミッションコントローラ プラズマ発光分析計 キャパシタンスマノメータ 放射温度計 マスフローコントローラ

Application

機能性フィルム

機能性ガラス

超伝導

関連製品

製品名をクリックすると、関連製品モデル一覧をご覧いただけます。

マスフローコントローラ/メータ

Digital Mass Flow Controller SEC-N100 Series

デジタル/アナログ、DeviceNet™、CC-Link®、PROFIBUS™、EtherCAT®と多様な通信方式と、10SCCMから1000SLMまでのワイドな流量制御範囲を誇る汎用モデル。

コンパクトプロセスガスモニタ

コンパクトプロセスガスモニタ MICROPOLE System

四重極質量分析計の測定原理を使った、コンパクトプロセスガスモニタ。チャンバ内に存在するガス成分をモニターするツールとして"真空の質"を管理します。

プラズマコントローラ/プラズマプロセスモニタ

プラズマエミッションコントローラ RU-1000

プラズマ発光強度をセンサーで捉え独自のアルゴリズムにより自社製高速応答マスフローコントローラに適切な反応性ガス流量の指示を行い金属モードに近い成膜速度の向上と共に安定な成膜を実現します。反応性スパッタ中のプラズマ発光・スパッタ電源の電圧をモニタし、反応性ガス流量にフィードバック、コントロールすることで、成膜速度の向上、プラズマの安定化に貢献します。

プラズマ発光分析エンドポイントモニタ EV-140C

プラズマを利用した半導体薄膜プロセスにおいて、エンドポイントの検出またはプラズマのコンディション管理を行うための、発光分析方式のエンドポイントモニタです。新開発のアルゴリズム“Rupture Intensity”により微弱な信号変化から的確にエンドポイントを検出できます。微弱な発光変化を捉えるため、感度を大幅に改善。またノイズ耐性を向上させることにより、24時間稼動する製造ラインの過酷な環境化で高い安定動作を確保します。

キャパシタンスマノメータ

キャパシタンスマノメータ VGシリーズ

コンパクト、オールメタル構造の自己温調型隔膜式真空計

放射温度計

装置搭載型 非接触放射温度計 IT-470F-H

装置搭載型 非接触放射温度計 IT-470F-H

自社開発の高感度サーモパイルセンサを搭載し、長年の放射温度計開発のノウハウを結集して実現した、業界最高精度の装置搭載型放射温度計です。
半導体・FPD製造など、高精度な温度測定が必要な分野で、プロセスの安定性向上に貢献します。