2005年11月29日 - 報道関係者 殿米国ベンチャー企業から最先端の半導体生産プロセスが注目する“残留ガス分析技術に関するIP権(知的財産権)”を取得しました。半導体の薄膜形成プロセスに対応する製品ラインアップを拡充します。株式会社 堀場エステック(社長:堀場厚、本社:京都市南区上鳥羽鉾立町11-5)は、米国フェラン サイエンティフィック社(FERRAN SCIENTIFIC...

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2005年10月24日 - 報道関係者殿株式会社 堀場エステック株式会社 堀場製作所グループ国内量産工場:阿蘇新工場が完成〜最新鋭の生産設備を導入。高品質なHORIBAグループ製品を全世界に供給〜 株式会社 堀場エステック(社長:堀場 厚、本社:京都市南区上鳥羽鉾立町11-5)が、熊本県阿蘇郡に建設をすすめていた、阿蘇新工場がこのほど完成致しました。

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2005年7月 1日 - 拝啓 時下ますますご清祥のこととお慶び申し上げます平素は格別のご高配を賜り 誠に有り難く厚くお礼申し上げますさて 6月30日に開催されました 当社第32回定時株主総会におきまして 下記のとおり新たに宇野敏彦 中川賢亮の両氏が取締役に 齊藤修氏が監査役に選任され それぞれ就任致しましたので 何卒よろしくお引き立てのほどお願い申し上げます

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2005年4月 5日 - 堀場エステックが主力のマスフローコントローラを生産している阿蘇工場(熊本県阿蘇郡)を、現在の3倍の規模に増強します。さらに、新工場をHORIBAグループの国内量産品主力工場に位置付けを格上げし、半導体分野に加えて医用や理化学分野製品の生産を移管・増産します。

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2005年1月11日 - 当社と株式会社堀場エステック(以下「堀場エステック」)は、本日それぞれの取締役会の決議を経て、株式交換により当社が堀場エステックを完全子会社とする株式交換契約書を締結致しましたので、下記のとおりお知らせ致します。 記 株式交換による完全子会社化の目的

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