ホリバ・インスツルメンツ社「HORIBA Reno Technology Center」を開設

2018年7月 2日


半導体製造プロセスにおける流体計測・制御技術の開発力を強化

HORIBAグループは、米国ネバタ州リノ市に半導体製造プロセスにおいて、流体計測・制御技術に関する開発拠点を移転し、8月23日から本稼働します。HORIBA Reno Technology Center(以下、リノ テクノロジーセンター)は、ホリバ・インスツルメンツ社(本社 : 米国カリフォルニア州アーバイン)の拠点の一つであり、当社の開発業務を行っています。半導体製造プロセスにおいて、ガスや液体の流体計測・制御は重要な要素であり、技術に対する要求水準も年々高度化していることから、ニーズに迅速に応えることが必要です。このような背景から、人員や設備を含めた開発機能の強化を実現するため、主要なお客様の近くにオフィスの移転・拡張を行いました。
当社は、多くの半導体製造装置メーカーが集まる米国で開発力を強化することにより、さらなる半導体業界の発展に貢献します。

HORIBA Reno Technology Center
ホリバ リノ テクノロジーセンター

 

リノ テクノロジーセンターを開設する背景

ネットワークに接続する機器は年々増加し、通信量は増加しています。半導体市場の牽引役は、これまでの携帯端末のみならず、データセンターや自動運転車など多岐に渡っています。特に近年は半導体メモリー市場が好調で、半導体製造装置メーカーによる積極的な設備投資が続いています。
半導体製造プロセスおいて、ガスや液体の流体計測・制御は重要な要素であり、半導体デバイスの微細化に伴い、お客様からの技術に対する要求水準も高度化しています。
半導体製造装置メーカーの開発拠点は北米に多く、お客様との関係を深め、ニーズに迅速に応えるためには、北米での開発拠点の拡充が重要です。今回、人員、設備増強を含めた開発機能の強化を目的に旧拠点から移転・拡張を行うことにしました。

また、当社は、昨年7月に京都福知山テクノロジーセンターで、ガス質量流量の校正におけるISO/IEC 17025の認定を取得しました。これにより、グループ内の流量計測技術の向上に貢献しています。今年5月には熊本県の阿蘇工場を拡張し、主力製品である「マスフローコントローラー」の生産能力を2倍に向上させました。日本で培った高い品質と供給力に加え、今回の移転による開発力強化を通じて、さらなる半導体業界の発展に貢献します。

 

リノテクノロジーセンターの周辺環境

米国における半導体・半導体製造装置メーカーの拠点は、シリコンバレーをはじめ、西海岸に多く位置しています。リノ テクノロジーセンターは、これら主要なメーカーとアクセスがよく、当社グループの販売拠点とも連携をとりやすい場所に位置します。
また、リノ市は近年、電気自動車向けの二次電池の大規模工場が建設されるなど、新しい産業が興っている地域であり、当社グループの研究開発拠点として、半導体だけでなく他事業との連携も強化していきます。

 

施設の概要

建物名称

HORIBA Reno Technology Center

住所

3740 Barron way Reno, Nevada 89511

延べ床面積

1,950 m2

開発エリア

1,700 m2 (従来比2.5倍)

クリーンルーム面積

148 m²

施設

事務/開発エリア

建屋

2階建て

従業員数 

38名(2018年6月現在)

 
堀場エステック 代表取締役社長 小石 秀之のコメント

当社のシリコンバレーへの事業展開は、1989年のマスフローコントローラーを中心とした流体計測・制御機器販売のための拠点開設からスタートしています。米国は特に半導体市場を牽引する半導体メーカーや先端プロセスを提供する半導体製造装置メーカーが多く、よりスピーディーに技術的な要求に応える事が非常に重要です。新しい開発拠点であるリノ テクノロジーセンターでは、お客様と市場のニーズをより早く、正確に取り込み、ソリューションを提供していきます。
日本の開発チームとの協働、さらにヨーロッパ、中国、台湾、韓国とのアプリケーション開発チームとの連携を加速し、グローバルでの開発をより強化していく事で、半導体業界のさらなる発展に貢献します。