Industry
マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置(GDS) GD-Profiler2
概要
rf-GD-OES(GDS)分析装置は、Arプラズマにより試料をスパッタリングさせ、スパッタされた原子を原子発光させることで、元素分析を行う、迅速かつ簡単な表面分析装置・深さ方向元素分析装置として、薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの研究開発・生産技術・品質管理の分野において、幅広く活用されています。高周波方式グロー放電を採用しているため、非導電性試料でも表面分析が可能です。
- 迅速に表面分析がしたい
- たくさんの試料・検体数の表面分析/深さ方向分析がしたい
- 定量的な表面分析がしたい
といった、表面分析/深さ方向分析のお悩み・お困りにお応えすることができます。
特長
- 迅速表面分析が可能!
- 非導電性材料の表面分析も可能!
- パルススパッタ(特許)により低ダメージ・高分解能測定が可能!
- 顕微鏡観察用の前処理・エッチング機としても活用可能!
- バルク分析(固体材料の定量分析)も可能!
次の機関ではrf-GD-OESを使って有償受託分析事業を展開しています。
東レリサーチセンター様:http://www.toray-research.co.jp/
環境技研リサーチセンター様:http://www.get-c.co.jp/
コベルコ科研様:http://www.kobelcokaken.co.jp/
日鉄住金テクノロジー様:http://www.nsst.nssmc.com/
東芝ナノアナリシス様:http://www.nanoanalysis.co.jp/
なお、弊社分析センター:http://www.horiba.com/jp/scientific/application-center-jp/ においても受託分析を行うこともできます。
製造会社: HORIBA Scientific
仕様
発光部 | |
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ランプ型式 | マーカス型 |
試料印加方式 | 13.56MHz高周波 |
高周波出力 | 0-300W(可変) |
パルス制御 | 〈周波数〉1〜100Hz(可変)〈Duty〉5〜50%(可変) |
ガス圧力 | 0〜1000Pa(可変) |
アノード径 | 〈標準〉4mm〈オプション〉1mm、2mm、7mm |
クリーニング機構 | モータ制御式自動クリーナ |
検出部 | |
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検出器 | 光電子増倍管 |
分析線 | 〈メイン分光器〉標準20本+追加25本(オプション) |
〈サブ分光器〉1本 | |
分析元素 | H〜Uまで |
データ取込間隔 | 最高0.001sec〜 |
シンクロ測光 | パルススパッタ適応時のみ(オプション) |
分光部 | |||
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ポリクロメータ(メイン分光器) | モノクロメータ(サブ分光器) | フラットフィールド・ポリクロメータ | |
マウント型式 | パッシェンルンゲ | ツェルニターナ | ポリクロメータ内組込み型 |
焦点距離 | 500mm | 640mm | |
回折格子 | ブレーズドホログラフィック凹面 グレーティング(刻線密度: 2400本/mm) | ブレーズドホログラフィック平面グレーティング(刻線密度: 2400本/mmもしくは3600本/mmも) | ホログラフィックグレーティング(刻線密度: 1200本/mm) |
波長範囲 | 110〜620nm | 165〜780nmもしくは165〜500nm | 400〜900nm |
実質分解能 | 0.013〜0.018nm | ||
ソフトウェア | |
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方式 | 日本語対話方式 Quantum XP |
ユーティリティ | ||
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本体装置質量 | 550kg | |
本体外形寸法 | 860(W)×1521(D)×1200(H)mm | |
ユーティリティ | 電源 | 〈本体用〉単相AC 200V 30A |
周波数 | 50/60Hz | |
ガス | 〈スパッタ用ガス〉Ar | |
設置環境 | 〈温度〉22〜24±2℃ |