電気・電子・機械装置

高スループットで効率的な異物検査・測定を実現。高い稼働率と長期にわたる安定性など、数々の高性能・高機能で多くの半導体製造現場で高く評価されているHORIBAのレティクル/マスク異物検査装置PDシリーズ。長期安定稼動する搬送系、高スループットなどの高性能機能を継承し、さらに独自に開発した信号処理方式により、シリーズ最高感度、最小0.35μmの微細異物検出を可能にしたのが、このレティクル/マスク異物検査装置PR-PD2です。各種のステッパーケースに対応する最大...

CS-131は、半導体製造における洗浄工程のSC-1溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。パーティクルや有機物の除去に使われるSC-1溶液(NH3/H2O2/H2O)の各成分濃度を常時モニタします。モニタ出力を用いたフィードバック制御を行うことにより、SC-1溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な薬液交換をなくすことができます。また冷却器一体型もラインアップし、広範囲なサンプル温度範囲に対応しました。

CS-152は、半導体製造における洗浄工程のSC-2溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。金属イオン除去に使われるSC-2溶液(HCl/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで自動補給するタイミングを知らせます。短い測定周期の実現により濃度変化に対しても忠実に追従し、またコンパクト設計により容易に洗浄装置へ組込むことができます。

CS-150は、半導体製造における洗浄工程のSPM溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。レジスト剥離や有機物の除去に使われるSPM溶液(H2SO4/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで自動補給するタイミングを知らせます。高速応答、短い測定周期の実現により濃度変化に対しても忠実に追従し、またコンパクト設計により容易に洗浄装置へ組込むことができます。

液体窒素冷却タイプの超低ノイズ検出器で、微弱光の検出に活躍します。

抜群の高感度、低ノイズで、微弱光の検出に活躍します。

CS-139Eは、半導体製造における洗浄工程のTMAH/H2O2溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。パーティクルや有機物の除去に代替SC-1として使用されるTMAH/H2O2溶液(TMAH/H2O2/H2O)の各成分濃度を常時モニタします。モニタ出力を用いたフィードバック制御を行うことにより、TMAH/H2O2溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な薬液交換をなくすことができます。また冷却器一体型もラインアップし、広...

このクラス初のイメージングモノクロメータ

紫外域～近赤外域まで対応のR&D向け高精度分光エリプソメーター

先端研究の薄膜・表面・界面の特性評価のために、UVISEL Plusは、モジュール式と性能面でベストな組み合わせを提供します。UVISEL Plusは、位相変調技術に基づき、紫外域190nmから近赤外域2100nmまでの広範囲な波長域をカバーしており、高精度・高分解能測定・素晴らしいS/N比で、全波長域に渡って高品質な測定データを採取することができます。

UVISEL...

10μmの革命！真空チャンバ（デュアル・バキューム・チャンバ）装備によりサンプル形態・分析目的に合わせ、分析環境を切替、軽元素の高感度分析が可能！高純度Si半導体検出器搭載。