Industry
リソグラフィー
高スループットで効率的な異物検査・測定を実現。高い稼働率と長期にわたる安定性など、数々の高性能・高機能で多くの半導体製造現場で高く評価されているHORIBAのレティクル/マスク異物検査装置PDシリーズ。長期安定稼動する搬送系、高スループットなどの高性能機能を継承し、さらに独自に開発した信号処理方式により、シリーズ最高感度、最小0.35μmの微細異物検出を可能にしたのが、このレティクル/マスク異物検査装置PR-PD2です。各種のステッパーケースに対応する最大...
高い稼働率と長期にわたる安定性で、多くの半導体製造現場から高く評価されているHORIBAの異物検査装置PDシリーズ。そのシンプルで長期安定稼働する搬送系、高スループット、信頼の光学系、さらに誤検出対策機能など高性能の数々を継承し、コンパクトにパッケージングしたのが、レティクル/マスク異物検査装置PR-PD3です。従来機(PR-PD2)と比べて約1/2という小型化を実現するとともに、低ランニングコストを追求。そして0.5μmの検出感度による広い汎用性。レティ...
PDシリーズの高性能を継承しながら、一層の小型化により、優れたコストパフォーマンスを実現。レティクルストッカやステッパ、洗浄装置などへの組み込みも可能です。
レティクル反転機構0.5ー50μm選択可能検査系1系統装置内蔵／組合せ型
先端マスク検査の大幅コストダウンを実現
高い稼働率と長期にわたる安定性を誇るレティクル・マスク異物検査装置PDシリーズ。その高性能機能を継承し、さらにS/N比を3倍以上向上、実用感度を大幅に向上させて、シリーズ最新機種HORIBA...
CS-137は、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。エッチング工程においてシリコン酸化膜のエッチング及びウエハ表面のパーティクル除去のために使われるBHF溶液(NH4F/HF/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりBHF溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。
紫外域～近赤外域まで対応のR&D向け高精度分光エリプソメーター
先端研究の薄膜・表面・界面の特性評価のために、UVISEL Plusは、モジュール式と性能面でベストな組み合わせを提供します。UVISEL Plusは、位相変調技術に基づき、紫外域190nmから近赤外域2100nmまでの広範囲な波長域をカバーしており、高精度・高分解能測定・素晴らしいS/N比で、全波長域に渡って高品質な測定データを採取することができます。
UVISEL...
CS-139Eは、半導体製造における洗浄工程のTMAH/H2O2溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。パーティクルや有機物の除去に代替SC-1として使用されるTMAH/H2O2溶液(TMAH/H2O2/H2O)の各成分濃度を常時モニタします。モニタ出力を用いたフィードバック制御を行うことにより、TMAH/H2O2溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な薬液交換をなくすことができます。また冷却器一体型もラインアップし、広...
CS-150は、半導体製造における洗浄工程のSPM溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。レジスト剥離や有機物の除去に使われるSPM溶液(H2SO4/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで自動補給するタイミングを知らせます。高速応答、短い測定周期の実現により濃度変化に対しても忠実に追従し、またコンパクト設計により容易に洗浄装置へ組込むことができます。
CS-152は、半導体製造における洗浄工程のSC-2溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。金属イオン除去に使われるSC-2溶液(HCl/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで自動補給するタイミングを知らせます。短い測定周期の実現により濃度変化に対しても忠実に追従し、またコンパクト設計により容易に洗浄装置へ組込むことができます。