マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置(GD-OES)

  • 迅速分析により、多検体の分析や成膜プロセスの管理に最適
  • パルススパッタリングなど新スパッタ法を用いることで、有機系試料の測定が可能
  • High Dynamic Detection機能により、半定量分析も可能

マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置 GD-Profiler2

希望販売価格(税抜) ¥43,000,000~

[測定元素]H~U
[検出下限]数10ppm
[深さ分解能]数nm~
[測定領域]1、2、4、7、10mmφ
[検出器]20ch(標準)、45ch(最大)

全固体電池 固体電解質の深さ方向分析

従来の分析方法
測定痕変質(測定ダメージによる変色)あり
従来の分析結果

GD-OESでは、迅速に深さ方向の水素(H)〜ウラン(U)を測定できます。
固体電解質の分析において、従来の分析手法では、スパッタリングダメージに伴い、リチウムなどの軽く、イオン化しやすい元素は、、測定中に試料内での移動が生じていましたが、HORIBAが考案した新手法を用いることで、安定したリチウムの深さ方向元素分析が可能になりました。

新手法
測定痕変質(測定ダメージによる変色)なし
新技術の分析結果

迅速に深さ方向元素分析が可能な表面分析装置として、めっき、熱処理、表面処理、コーティングなどの研究開発や成膜評価において活用されています。

●トランスファーベッセル
グローブボックスから装置までの雰囲気を制御し、大気非暴露分析が可能です。

めっき中水素のベーキング前後の深さ方向分析

ベーキング前後での水素のプロファイルに大きな違いが見られる。ベーキングにより、水素が放出されたことを示唆している。

摺動部品表面DLCの深さ方向分析

平面サンプルだけではなく、自動車部品のような非平面サンプルも測定できます。


非平面サンプル例

マーカス型高周波グロー放電質量表面分析装置(GD-TOF-MS)

  • HORIBA独自の高周波スパッタを採用したGD-MS。深さ方向分析が可能
  • 高感度迅速深さ方向分析、有機構造解析、同位体分析が可能

マーカス型高周波グロー放電質量表面分析装置 

PP-TOF-MS

希望販売価格 別途御見積

[質量分解能]3500 at m/z 208
[ダイナミックレンジ]108
[深さ分解能]数nm~
[測定領域]2、4、7mmφ
[検出器]飛行時間型質量分析計

分光エリプソメータ

  • Åオーダーの極薄膜から80μmの厚膜まで測定可能
  • 電動で可変する8種類のマイクロスポットを搭載(最小85μmx35μm)
  • 機械的な振動のない位相変調技術および光電子倍増管(PMT)による高精度測定
  • 試料ビジョンシステム “MyAutoView”により、様々な表面やパターンを有する薄膜材料の試料表面および測定スポット位置を観察でき、容易に測定位置を決定。
  • さらに表面の汚れやコンタミを避けた位置での測定が可能

分光エリプソメータ UVISEL2

希望販売価格(税抜)¥36,000,000~

[波長範囲]190〜1000nm(2100nmまで拡張可)
[測定膜厚範囲]1Å〜80μm(膜種・構造によって異なる)
[スポット径]2mm×0.7mm、0.6mm×0.5mm、85μm×35μm 他(@70°)
[ステージ]電動、ストローク200mm(X、Y)、30mm(Z)
[入射角度]電動可変(35〜90°)
[アクセサリ]温度可変ステージ、回転ステージ、液体測定セルなど

 

NEW

  • Åオーダーの極薄膜から80μmの厚膜まで測定可能
  • 数種類のスポット径選択可能
  • 機械的な振動のない位相変調技術および光電子倍増管(PMT)による高精度測定

分光エリプソメータ UVISEL Plus

希望販売価格(税抜)¥21,000,000~

[波長範囲]190〜920nm(2100nmまで拡張可)
[測定膜厚範囲]1Å〜80μm(膜種・構造によって異なる)
[スポット径]0.05mmφ、0.1mmφ、1mmφ 他
[ステージ]XY軸固定、電動から選択可能
[入射角度]マニュアル式、電動式から選択可能
[オプション]光学観察機能、温度可変ステージ、液体測定セルなど

 

可視分光エリプソメータ

[Smart SE、Auto SE共通]

  • 簡単操作を実現した日本語ソフトウエアを搭載。プッシュボタン感覚で、測定からレポートまでを完全自動化
  • 電動で可変する7種類のマイクロスポットを標準搭載
  • 微小な領域の測定が可能
  • CCD検出器による高速測定
  • 試料ビジョンシステム“MyAutoView”により、様々な表面やパターンを有する薄膜材料の試料表面および測定スポット位置を観察でき、容易に測定位置を決定。さらに表面の汚れやコンタミを避けた位置での測定が可能

[Smart SE]

  • 場所をとらないコンパクトサイズ
  • 多彩なオプションで仕様を自由に選択・性能を拡張

[Auto SE]

  • 電動XYZステージにより、面内高速マッピング測定を実現
  • ワンクリックで測定から面内分布レポート(2D、3Dなど)まで完全自動化

薄膜計測装置 Smart SE

希望販売価格(税抜)¥13,000,000~

[波長範囲]450〜1000nm
[測定膜厚範囲]1nm〜15μm(膜種・構造によって異なる)
[スポット径]500μm角、150μm角、75×150μm角 他(@70°)
[ステージ]固定、高さ17mm手動可変
[入射角度]70°固定(45°〜90°、5°刻みで手動変更可)
[オプション]電動ゴニオメータ、In-situ測定用アダプタ
電動XYステージ(200mm、300mmウエハ対応)他

自動薄膜計測装置 Auto SE

希望販売価格(税抜)¥16,750,000~

[波長範囲]450〜1000nm
[測定膜厚範囲]1nm〜15μm(膜種・構造によって異なる)
[スポット径]500μm角、100μm角、25×60μm角 他(@70°)
[ステージ]電動、ストローク200mm(X、Y)、30mm(Z)
[入射角度]70°固定(66°固定の選択可)
[オプション]Xeランプユニット
[アクセサリ]回転ステージ、液体測定セルなど

AFM-ラマン装置

  • ラマン光に干渉しないIR AFMダイオード
  • ヘッドの移動を必要としないチップ交換
  • カンチレバーのオートアライメント
  • TERS(Tip-Enhanced Raman Spectroscopy)用高NA対物レンズ(0.7 NA)
  • AFM/ラマン同一領域測定
  • TERSで回折限界を超える測定空間分解能(数十nm〜)によるラマン測定

AFM-ラマン装置 AFM-ラマン

希望販売価格 別途御見積

XploRA PLUS、LabRAM HR Evolutionに統合可能

顕微レーザラマン分光測定装置

  • 紫外から近赤外まで広い測定波長域(200~2100nm)
  • 自動光軸調整機構
  • レーザ、フィルタなどの自動切り替え機構搭載
  • 自由度の高いプラットフォーム(AFM-ラマン、フォトルミネッセンス、透過ラマン、加熱冷却ステージなど)
  • 800mm分光器による高分解能測定で結晶評価、応力測定などに最適

顕微レーザラマン分光測定装置 LabRAM HR Evolution

希望販売価格(税抜)¥27,500,000~

ツェルニターナ型分光器(焦点距離800mm)
[波数分解能]0.3cm-1(条件:He-Ne633nm/1800gr/mm回折格子)
[空間分解能]約1μmφ(相談可:約0.5μm)

ラマン顕微鏡

  • 暗視野、偏光、微分干渉などの観察機能により異物測定に最適
  • オリンパス/ニコン顕微鏡へのラマンモジュール搭載可
  • 生産管理向けワンクリックオペレーション装置(XploRA ONE)
  • 研究・品質管理向け多波長自動切り替え、高速マッピング、スペクトル検索による同定などオプションが豊富(XploRA PLUS)
  • バイオサンプル測定用の倒立型顕微鏡ラマン。蛍光観察やインキュベーションセルを搭載可能(XploRA INV)


※XploRA INVは非対象

ラマン顕微鏡 XploRA ONE

希望販売価格(税抜)¥15,600,000~

ラマン顕微鏡 XploRA Plus

希望販売価格(税抜)¥17,200,000~

ラマン顕微鏡 XploRA INV

希望販売価格 別途御見積

[搭載レーザ]最大3本(532nm、638nm、785nm)
[ラマンフィルタ]3枚自動切り替え
[回折格子]4枚自動切り替え
[空間分解能]約1μmφ
[電源]110V±10% 20A

ベンチトップ型レーザラマン分光測定装置

  • 簡易なラマン分光測定が可能
  • 現場に持ち込みサンプルの切断なく分析も可能
  • 装置本体内にサンプルをセットした測定も可能
  • 固体・液体サンプル、温調にも対応した豊富なオプション

ベンチトップ型レーザラマン分光測定装置 MacroRAM

希望販売価格(税抜)¥9,850,000~

[レーザー]785nm 7 mW – 450 mW
[波数分解能]6cm-1(at 912nm)
[サイズ]432 mm×432 mm×381 mm

 

トリプルラマン分光装置

  • 究極の超低波数測定、高分解能測定が可能
  • 独自のトリプルモノクロメータによる迷光除去機能
  • 交換可能グレーティングとPAC(収差補正)グレーティングを使用し、紫外~近赤外の広範囲のスペクトル測定可能
  • 顕微測定室とマクロ測定室の簡単切り替え
  • チタンサファイヤレーザなどの可変レーザに対応

トリプルラマン分光測定装置 T-64000

希望販売価格 別途御見積

ツェルニターナ型分光器(焦点距離640mm)
トリプルモノクロメータ
10cm‒1~の低波数測定
差分散モード/加分散モード/シングルパスモードの簡単切り替え

 

フォトルミネッセンス測定装置


iHR320ベース マクロPL測定

 

フォトルミネッセンス測定装置
Photoluminorシリーズ

希望販売価格 別途御見積

レーザ/分光器/検出器/光学系/測定部/制御部で構成
[波長範囲]200nm〜2700nm
[分光器]140mm〜1250mm
マクロ測定/顕微鏡測定対応
極低温測定対応

 

  • 豊富な分光器とグレーティングのリストから、高感度から高分解能までご要望に合わせた選択が可能
  • 測定波長域に合わせた最適な光学設計により高いスループットを実現
  • 測定目的に応じてマクロ測定、顕微測定、ファイバー測定、クライオスタットを利用した極低温測定に対応
  • お客様がお持ちのレーザを利用しての設計も可能
  • オプションの高速マッピング測定機能により2インチ、3インチ、4インチのウエハを短時間で測定


FHR1000ベース 極低温PL測定

シリコン中不純物測定 フォトルミネッセンス測定装置

  • シリコン中不純物(P、B、Al、As)の高感度定量分析が可能です
  • 試料はインゴットから切り出されたウエハから更にペレット上にし、化学・機械研磨した上で測定
  • 最大試料取付枚数は32枚(試料サイズに依存)

フォトルミネッセンス測定装置 Photoluminor-D

希望販売価格 別途御見積

[分光器焦点距離]1000mm
[グレーティング]1200gr/mm
[レーザ波長]YAG532nm
InGaAs検出器
4.2kクライオスタット使用
[検出限界]上限:5×1015atm/cm3(理論値)(P、B、Al、As)
下限:2×1010atm/cm3(理論値)(P、B)
5×1010atm/cm3(理論値)(AI、As)

顕微フォトルミネッセンス測定装置

  • 2、3、4インチのウエハの高速マッピングに対応
  • CCDとInGaAs検出器の2台搭載により、紫外〜近赤外(200nm〜2100nm)に対応
  • 化合物半導体のマッピング測定を高速、高精度、高再現性で実現
  • ラマン測定にも対応
  • 高空間分解能

顕微フォトルミネッセンス測定装置 LabRAM HR-PL

希望販売価格(税抜)¥27,500,000~

ツェルニターナ型分光器(焦点距離800mm)
[波長範囲]200nm~2100nm
[波長分解能]0.03nm at 400nm
最大300mmのステージに対応


クライオスタット測定イメージ

カソードルミネッセンス測定システム

  • 微小領域での物性、結晶性及び不純物、欠陥評価
  • 表面下にある構造の深さ方向測定
  • ワイドギャップ材料の評価
  • 複合評価(EDX、EBICなど)
  • 主なアプリケーション材料:半導体、化合物半導体、酸化物、蛍光体、鉱物など

カソードルミネッセンス測定システム HORIBA CLUEシリーズ

希望販売価格 別途御見積

[分光器焦点距離]140, 320または550mm
[波長範囲]UV〜可視〜NIR; 200〜1,700nm
(装置の構成による)

価格は仕様により異なりますので、別途お見積もりいたします。「見積・資料・お問い合わせ」よりお申し込みください。

お問い合わせ

お電話でも製品の技術的なご質問や仕様のご相談を承ります。

株式会社 堀場製作所
カスタマーサポートセンター

フリーダイヤル 0120-37-6045
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9:00~12:00/13:00~17:00
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