GD-OES

マーカス型高周波グロー放電発光表面分析(GD-OES)

GD-OES(GDS)とは

GD-OES(Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy)とは、グロー放電領域のスパッタリングを用いて、導電性・非導電性皮膜をスパッタリングし、スパッタされた原子のArプラズマ内における発光を分光測定する手法です。

グロー放電発光表面分析法(GD-OES 法)は、めっき・熱処理・蒸着・スパッタなど各種表面処理が施された試料の深さ方向元素分析(Depth Profile Analysis) を迅速に行う分析手法です。 深さ方向への分析方法とし ては、二次イオン質量分析法(SIMS)、オージェ電子分光法(AES)、光電子分光法(XPS)や、試料切断・樹脂抱埋・ 研磨により作製した試料断面を SEM-EDX 観察や EPMA などにて元素分析するのが一般的ですが、これらの方法は分析および分析までの前処理に時間や経験を要するなど難しい面があります。 GD-OES 法は、迅速性に優れ、簡単に分析できると いう特長を有しており、めっきなどの湿式成膜や蒸着・ スパッタなどの乾式成膜で形成された薄膜に対する分析手法として活用されています。

GD-OES(GDS)の特長

  • 最表面から母材までミクロンオーダでも数分で分析できます。
  • 深さ方向の元素プロファイルを高感度に分析できます。
  • H, C, N, O などの軽元素から U まで多元素同時分析できます。中でも、B, Li, F などの元素が測れることが特長的です。
  • 試料の前処理が不要で、試料導入も大気中で行えるため、試料 のセットから測定完了まで、わずか数分で完了します。
  • 高周波グロー放電方式のため、ガラスやセラミックスのような非導電性試料も測れ、測定対象の材質の幅が広がります。
  • 間欠的スパッタリングにより熱ダメージの影響が出やすい 有機系皮膜やガラスなども高分解能に測定できます。

製品特長

ナノからミクロンまで、深さ方向の「やさしい」元素分析! rf-GD-OES は、様々な表面/深さ方向分析において、簡単・迅速な測定を実現します!

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rf-GD-OES法と他の分析手法の比較

  • SIMS測定との比較
  • EPMA測定との比較
  • GD-OESとXPSによる電磁鋼板の測定比較
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GD-OES(GDS)の用途

表面分析

  • 薄膜・めっき・熱処理・表面処理コーティングなどの研究開発
  • 生産技術・品質管理の分野における迅速な表面分析/深さ方向分析

バルク分析

  • 鋼材の成分分析
  • 非鉄金属の組成分析

観察用前処理

  • 光学顕微鏡(OM)
  • 走査型電子顕微鏡(SEM)
  • 透過型電子顕微鏡(TEM)
  • 固体試料・膜中にどのような元素が存在するのか?
    またその濃度はどのレベルか?
  • 試料・膜は深さ方向に均一か?
  • 表面処理の傷・欠陥は何が影響しているのか?
  • コーティングは何層か?
  • コーティングの厚みは?
  • 競合他社の試料はどうなっているのか?
  • 界面におけるコンタミはあるのか?
  • 酸化や腐食はあるか?
  • 拡散はあるのか?

カタログ・アプリケーション

GD-OES法の原理・技術情報

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