材料  ~GD-OESアプリケーション~

水素・非鉄・合金

rf-GD-OESによる材料中水素評価
rf-GD-OESは原子発光を応用した分光分析法のため、水素Hなどの軽元素の分析を行うことができます。

鉄鋼・水素

GD-OESによる重水素分析
GD-OES分析は、水素HからウランUまで、HやLiなどの軽元素含む幅広い元素が測れ ることが特長的でありますが、軽水素Hの発光線である121.567nmの近傍の121.534nmに 重水素Dの発光線があることは知られていません

Surface Cleaningによる水素測定の改善
GD-OES法は、水素Hを分析することができるというユニークな特長を有しています。

非鉄・合金

JY-5000RF(GD-OES)によるハードディスク測定[1]
図1にある断面TEM像のような、Al基板上にNiPメッキした後、Cr・Co磁性膜、DLC膜を施したハードディスク基板をJY-5000RF(GD-OES)で測定しました。

JY-5000RF(GD-OES)によるハードディスク測定[2]
Al基板上にNiPメッキした後、Cr・Co磁性膜、DLC膜を施したハードディスク基板を試料とし、その深さ方向定量分析をJY-5000RF(GD-OES)とSEM-EDXで行いました。

鉄鋼

迅速分析例:熱処理部品[1]
GD-OES法は、一般的に数分、速い時は数秒という測定スピードで分析を完了させることが出来ます。これは、分析時のスパッタリング速度が約1~10μmという高速であるためです。

迅速分析例:熱処理部品[2]
GD-OES法は、一般的に数分、速い時は数秒という測定スピードで分析を完了させることができる迅速表面分析法です。しかし、100μm程度が一般的に分析できる深さの限界と言われています。

迅速分析例:界面における拡散解析
GD-OES法は、一般的に数分、速い時は数秒という測定スピードで分析を完了させることができる迅速表面分析法です。よって、短時間で分析・解析することができます。

迅速分析例:自動車用ボディーの分析例
高周波(Radio-Frequency)方式を用いたGD-OES法では、非導電性の皮膜でも問題なく、深さ方向分析を行うことができます。

バルク分析法としてのGD-OES[2]
昨今、鉄鋼・アルミニウム・銅などの各種金属材料の入手が困難になり、成分・組成等が不明・不確かな材料が広く流通する傾向があるため、それらの成分分析(バルク分析)のために、GD-OESを活用するケースが増えてきています。

バルク分析法としてのGD-OES[3]
昨今、鉄鋼・アルミニウム・銅などの各種金属材料の入手が困難になり、成分・組成等が不明・不確かな材料が広く流通する傾向があるため、それらの成分分析(バルク分析)のために、GD-OESを活用するケースが増えてきています。