グレーティング

最もオーソドックスなグレーティングです。ミラーとの組み合わせで分光器の分光素子として、また光スペクトルアナライザーなどの分光素子としても使用されております。
用途に合わせて、ルールド、ホログラフィック、ブレーズドホログラフィク各タイプがご使用になれます。

平面グレ−ティングと並び従来からよく使用されてきたグレーティングです。HORIBA JOBIN YVON社の凹面グレーティングは、ホログラフィックタイプであり迷光が低く抑えられています。

コリメータと分光素子の両方の働きを兼ね備えたグレーティングです。
グレーティングの回転により簡単に波長選択ができます。またコリメー ター鏡が不要な為、コンパクトな分光器の設計が可能になります。従来の凹面グレーティングは、収差の影響からこのような用途には使用できませんでした。 HORIBA JOBIN YVON社は世界に先駆け、ホログフィック露光法により初めて収差補正型のグレーティングを開発し、収差を可能な限り補正しこの問題を解決しました。
ホログラフィックタイプだけでなく、ブレーズド・ホログラフィックタイプもご利用になれます。また使用波長域も紫外から赤外までの様々タイプを豊富に取り揃えております。

ダイオードアレイ、CCD対応のグレーティングです。スペクトル面を可能な限りフラットにし、また同時にコマ収差、非点収差等を極小に抑えた設計になっています。
スペクトル分布を同時測光するのに最適なグレーティングです。近年光を使用した試薬、血液分析など医療分野の分析機器に広く使用されています。

HORIBA JOBIN YVON社製グレーティングは、産業分野ばかりでなくサイエンスの先端分野でも活躍しています。

HORIBA JOBIN YVON社がおくる最高品質のパルス圧縮用ホログラフィックマスターグレーティングです。
絶対効率90％以上(E⊥偏向)、高損傷閾値をもち、最大径Ø600mmまで製作可能です。また、小サイズ用に、新たにレプリカグレーティングもご用意致しました。

また、従来の金コート回折格子に加え、次世代のエネルギー問題を担う、PW級の高出力レーザーに対応の、大型誘電体多層膜グレーティングの開発に成功し、現在世界の主要高出力レーザー研究機関に採用され実績を上げています。


誘電体多層膜グレーティング

Holographic Ion-etching type真空紫外軟X線用グレーティングです。形状は、平面を始め、凹球面、トロイダル各種取り揃えております。
Holographic Ion-etching type の Variable Line Spacing Plane Grating (VLS-Gratings)に加え、新たに溝深が溝方向にそって変位しているVariable Groove Depth Grating (VGD-Grating)を開発しました。
VLS-Gratings とVGD-Gratings の双方を兼ね備えた、VLS・VGD-Gratingsの提供も可能です。また特注仕様にも対応致します。

Blank材は、fused silicaを始め、silicon、CVD silicon carbide等が可能です。


Variable Groove depth Gratings

その他、衛星搭載用グレーティング、グリズム、色素レーザー用グレーティングなど提供可能です。お問い合わせ下さい。