マイクロアナリシス
顕微鏡用迅速試料作製装置 TENSEC テンセック
概要
TENSECは、高周波グロー放電発光分析装置（rf-GD-OES）がもつ50eVという低エネルギーArプラズマを顕微鏡用の前処理として応用したエッチング専用装置です。その名通り、10sec（テンセック）という短時間で試料の表面をエッチングすることにより、光学顕微鏡や電子顕微鏡などにとって、より良い表面を作製できる装置です。
TENSECの活用事例（アプリケーション）
耐食性の高い試料に対する前処理（エッチング）
ステンレス、チタンなどの材料をはじめ、エッチングが難しい材料に対する前処理やウェットでは溶出する析出物や介在物の前処理に適しています。
組成・組織の違いを反映させるためのエッチング
鏡面研磨やFIB・CP処理によりできた凹凸のない試料表面に若干の凹凸を付け、観察しやすくするための前処理に適しています。
表面汚れ・研磨ダレの除去（プラズマクリーニング）
表面のコンタミ除去や研磨によるダレなどを除去するプラズマクリーニング的な処理も行うことが可能です。
EBSP観察の前処理
TENSECによる前処理を行うことで、EBSP観察がより行いやすくなる場合があります。材料解析の一つの手法として、ご検討ください。
Wonder Wonderful : ナノ世界への新たな視界
rf-GDによる前処理（TENSEC）にご興味のある方には
慶應義塾大学 清水健一先生・三谷智明先生共著
「A New World of Scanning Electron Microscopy」をご紹介致します。
お問い合わせください。
製造会社: HORIBA
仕様
電源 | 単相AC100〜240V 2kVA |
|---|---|
イオン源 | Arプラズマ |
イオンエネルギー | 〜50eV |
使用ガス | アルゴン(純度99.9%) 0.5MPa |
試料サイズ | 100(W)×100(D)×30(H)mmまで可能 |
処理面積 | Ø3.5ｍｍ |
処理速度 | 2.4μm/分(Si) (*)処理条件による |
外形寸法 | 430(W)×824(D)×1508(H) (試料セット部分：H1000)mm |
質量 | 80kg |
外形寸法図・他（単位：mm）
