プラズマ発光状態のモニタリング、ガス流量制御、ガス分圧モニタリングを組み合わせ、透明導電膜、反射防止膜などのドライコーティングプロセスにおける品質と生産性を向上することができます。

HORIBAは各プロセスに最適なソリューションを提案いたします。

プラズマコントローラ : プラズマ発光状態を計測し、スパッタ装置への導入ガス流量を自動的に制御します。
コンパクトプロセスガスモニタ : チャンバ内の微量ガスを計測。 常にベストなプロセス条件になるようモニタリングします。
マスフローコントローラ : 正確なガス流量制御を実現します。

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関連製品

製品名をクリックすると、関連製品モデル一覧をご覧いただけます。

マスフローコントローラ/メータ

Digital Mass Flow Controller SEC-N100 Series

デジタル/アナログ、DeviceNet™、CC-Link®、PROFIBUS™、EtherCAT®と多様な通信方式と、10SCCMから1000SLMまでのワイドな流量制御範囲を誇る汎用モデル。

マスフローモジュール CRITERION D500

差圧検出方式を採用した最先端プロセス向け高性能マスフローモジュール。自己診断機能を搭載。

高温対応デジタルマスフローコントローラ SEC-8000F/D/E シリーズ

15℃から120℃までの高温環境対応のデジタルマスフローコントローラ

コンパクトプロセスガスモニタ

コンパクトプロセスガスモニタ MICROPOLE System

四重極質量分析計の測定原理を使った、コンパクトプロセスガスモニタ。チャンバ内に存在するガス成分をモニターするツールとして"真空の質"を管理します。

プラズマコントローラ

プラズマエミッションコントローラ RU-1000

プラズマ発光強度をセンサーで捉え独自のアルゴリズムにより自社製高速応答マスフローコントローラに適切な反応性ガス流量の指示を行い金属モードに近い成膜速度の向上と共に安定な成膜を実現します。反応性スパッタ中のプラズマ発光・スパッタ電源の電圧をモニタし、反応性ガス流量にフィードバック、コントロールすることで、成膜速度の向上、プラズマの安定化に貢献します。