HORIBAの分析・制御・評価技術は、FPD製造プロセスにおいて広く採用されています。
ガスや薬液の組成、マスク上異物検査、薄膜計測など各工程における生産支援はもちろん、研究開発から評価段階までも高性能な分析・制御機器でサポートします。

FPD Process

関連製品

各工程に最適なHORIBAの分析・制御装置をご覧いただけます

純水計測

ポータブルDOモニタ SD-300

ポータブルで高感度だから、使いやすくて高性能

半導体分野における超純水中のDO濃度の高精度測定・モニタを実現

半導体製造プロセス向超純水管理用

最高感度0.01μg/L(0.01ppb)で、極低濃度のシリカを測りたいという要求に確実にお答えします

素材解析(微粒子分析・欠陥解析)

マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置(GDS) GD-Profiler2

rf-GD-OES(GDS)分析装置は、Arプラズマにより試料をスパッタリングさせ、スパッタされた原子を原子発光させることで、元素分析を行う、迅速かつ簡単な表面分析装置・深さ方向元素分析装置として、薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの研究開発・生産技術・品質管理の分野において、幅広く活用されています。高周波方式グロー放電を採用しているため、非導電性試料でも表面分析が可能です。

顕微レーザーラマン分光測定装置 LabRAM HR Evolution

多くの科学研究者の皆様にはLabRAM HRシリーズを10年以上にわたりご利用いただき、 23,000件を超える学術報告にLabRAM HRシリーズのデータが掲載されています。LabRAM HR Evolutionは、紫外~近赤外領域における高いスペクトル分解能測定を継承するとともに、サブミクロンスケールの空間分解能、オートメーション機能を強化した最高峰の顕微ラマン分光装置です。

X線分析顕微鏡 XGT-7000V

10μmの革命!真空チャンバ(デュアル・バキューム・チャンバ)装備によりサンプル形態・分析目的に合わせ、分析環境を切替、軽元素の高感度分析が可能!高純度Si半導体検出器搭載。

薬液濃度モニタ製品一覧ページへ移動します

ガス制御

ガス濃度管理

チャンバークリーニング終点検知用ガスモニタ IR-400 Series

プロセス装置に搭載し排ガス成分(SiF4、CF4)をリアルタイムにモニタリング可能。

ガス濃度モニタ IR-300 series

バブリング供給ライン用インラインガス濃度モニタ。材料ガスの安定供給に。

プロセスガスモニタリング

コンパクトプロセスガスモニタ MICROPOLE System

四重極質量分析計の測定原理を使った、コンパクトプロセスガスモニタ。チャンバ内に存在するガス成分をモニターするツールとして"真空の質"を管理します。

薄膜制御・分析

プラズマ発光分析エンドポイントモニタ EV-140C

プラズマを利用した半導体薄膜プロセスにおいて、エンドポイントの検出またはプラズマのコンディション管理を行うための、発光分析方式のエンドポイントモニタです。新開発のアルゴリズム“Rupture Intensity”により微弱な信号変化から的確にエンドポイントを検出できます。微弱な発光変化を捉えるため、感度を大幅に改善。またノイズ耐性を向上させることにより、24時間稼動する製造ラインの過酷な環境化で高い安定動作を確保します。

New Uvisel 2

数Åから数十μmの薄膜に対して最高水準の性能を備えた、次世代の分光エリプソメーター。

 

CMPプロセス粒子計測

レーザ回折/散乱式粒子径分布(粒度分布)測定装置 LA-960シリーズ

世界で最高クラスの品質、精度、信頼を得たレーザ回折/散乱式粒子径分布測定装置 Partica(パーティカ)シリーズ。Particaの実力を最大限に継承、かつ粒度分布サブミクロン領域の測定性能を革新し、測定レンジのみならず実用性、実性能でユーザニーズに応えるモノづくりにこだわりました。

排水分析

製品画像

生産終了いたしました。後継機種はH-1シリーズHC-200Fをご参照ください。