最先端の微細加工技術がいたるところで用いられている半導体製造プロセスでは、品質管理がビジネスに直結する重要課題です。
使用されるガスや薬液の量・濃度が常に正しく保たれているか、また微細なゴミが付着していないかなどをモニタリングする必要があります。HORIBAでは気体・液体・固体の分析・制御技術をフルに活用することで、半導体製造プロセスの各段階に合わせた分析・制御装置を提供しています。
素材の評価から、プロセス管理、最終検査まであらゆるシーンで最先端デバイスの効率生産をサポートしています。

注目アプリケーション

非接触温度計測

  • 真空チャンバ内のサセプタ温度計測
  • FPD製造プロセスにおける液晶基板の表面温度計測 
  • 石英基盤研磨時の温度管理

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半導体製造プロセス

関連製品

各工程に最適なHORIBAの分析・制御装置をご覧いただけます。

素材解析

シリコン中不純物定量分析用フォトルミネッセンス測定装置 Photoluminor-D

フォトルミナーDはシリコン中の微量不純物分析用途を目的として開発されました。

露光工程異物検査

HORIBA's PR-PD2 Particle Detection System

高スループットで効率的な異物検査・測定を実現。高い稼働率と長期にわたる安定性など、数々の高性能・高機能で多くの半導体製造現場で高く評価されているHORIBAのレティクル/マスク異物検査装置PDシリーズ。長期安定稼動する搬送系、高スループットなどの高性能機能を継承し、さらに独自に開発した信号処理方式により、シリーズ最高感度、最小0.35μmの微細異物検出を可能にしたのが、このレティクル/マスク異物検査装置PR-PD2です。各種のステッパーケースに対応する最大...

PR-PD2HR Particle detection system

先端マスク検査の大幅コストダウンを実現

高い稼働率と長期にわたる安定性を誇るレティクル・マスク異物検査装置PDシリーズ。その高性能機能を継承し、さらにS/N比を3倍以上向上、実用感度を大幅に向上させて、シリーズ最新機種HORIBA...

Compact Reticle/Mask Particle Detection System PR-PD3

高い稼働率と長期にわたる安定性で、多くの半導体製造現場から高く評価されているHORIBAの異物検査装置PDシリーズ。そのシンプルで長期安定稼働する搬送系、高スループット、信頼の光学系、さらに誤検出対策機能など高性能の数々を継承し、コンパクトにパッケージングしたのが、レティクル/マスク異物検査装置PR-PD3です。従来機(PR-PD2)と比べて約1/2という小型化を実現するとともに、低ランニングコストを追求。そして0.5μmの検出感度による広い汎用性。レティ...

パーティクルリムーバ RP-1

ブローと真空吸引で異物を自動除去レティクル/マスクに付着した異物をAir(又はN2)ブローと真空吸引により自動除去します。露光前のルーチン運用で、毎回異物を除去する事により、ペリクルの貼り替えやマスクの洗浄周期を延ばし、ランニングコスト低減に寄与します。

ガラス面上異物除去時(20μmホウ珪酸ビーズ除去率データ)

PR-PD5 Particle detection system

PDシリーズの高性能を継承しながら、一層の小型化により、優れたコストパフォーマンスを実現。レティクルストッカやステッパ、洗浄装置などへの組み込みも可能です。

レティクル反転機構0.5ー50μm選択可能検査系1系統装置内蔵/組合せ型

ブランクマスク異物検査装置PR-PD2BLI

量産ブランクマスクの高速・高精度異物検査装置

純水計測/モニタリング

2チャンネル比抵抗計 HE-960RW-GC

2箇所の比抵抗を同時測定・同時出力 耐薬品性センサ採用

ポータブルDOモニタ SD-300

ポータブルで高感度だから、使いやすくて高性能

半導体分野における超純水中のDO濃度の高精度測定・モニタを実現

半導体製造プロセス向超純水管理用

最高感度0.01μg/L(0.01ppb)で、極低濃度のシリカを測りたいという要求に確実にお答えします

素材解析(微粒子分析、欠陥解析)

マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置(GDS) GD-Profiler2

rf-GD-OES(GDS)分析装置は、Arプラズマにより試料をスパッタリングさせ、スパッタされた原子を原子発光させることで、元素分析を行う、迅速かつ簡単な表面分析装置・深さ方向元素分析装置として、薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの研究開発・生産技術・品質管理の分野において、幅広く活用されています。高周波方式グロー放電を採用しているため、非導電性試料でも表面分析が可能です。

顕微レーザーラマン分光測定装置 LabRAM HR Evolution

多くの科学研究者の皆様にはLabRAM HRシリーズを10年以上にわたりご利用いただき、 23,000件を超える学術報告にLabRAM HRシリーズのデータが掲載されています。LabRAM HR Evolutionは、紫外~近赤外領域における高いスペクトル分解能測定を継承するとともに、サブミクロンスケールの空間分解能、オートメーション機能を強化した最高峰の顕微ラマン分光装置です。

X線分析顕微鏡 XGT-7000V

10μmの革命!真空チャンバ(デュアル・バキューム・チャンバ)装備によりサンプル形態・分析目的に合わせ、分析環境を切替、軽元素の高感度分析が可能!高純度Si半導体検出器搭載。

薬液濃度モニタ製品一覧ページへ移動します

ガス制御

ガス濃度管理

チャンバークリーニング終点検知用ガスモニタ IR-400 Series

プロセス装置に搭載し排ガス成分(SiF4、CF4)をリアルタイムにモニタリング可能。

ガス濃度モニタ IR-300 series

バブリング供給ライン用インラインガス濃度モニタ。材料ガスの安定供給に。

プロセスガスモニタリング

コンパクトプロセスガスモニタ MICROPOLE System

四重極質量分析計の測定原理を使った、コンパクトプロセスガスモニタ。チャンバ内に存在するガス成分をモニターするツールとして"真空の質"を管理します。

薄膜制御/分析

New Uvisel 2

数Åから数十μmの薄膜に対して最高水準の性能を備えた、次世代の分光エリプソメーター。

 

CMPプロセス粒子計測

レーザ回折/散乱式粒子径分布(粒度分布)測定装置 LA-960シリーズ

世界で最高クラスの品質、精度、信頼を得たレーザ回折/散乱式粒子径分布測定装置 Partica(パーティカ)シリーズ。Particaの実力を最大限に継承、かつ粒度分布サブミクロン領域の測定性能を革新し、測定レンジのみならず実用性、実性能でユーザニーズに応えるモノづくりにこだわりました。

排水分析

製品画像

生産終了いたしました。後継機種はH-1シリーズHC-200Fをご参照ください。

非接触温度計測

IT-470F-H Built-in type Non-Contact Infrared Thermometer

自社開発の高感度サーモパイルセンサを搭載し、長年の放射温度計開発のノウハウを結集して実現した、業界最高精度の装置搭載型放射温度計です。半導体・FPD製造など、高精度な温度測定が必要な分野で、プロセスの安定性向上に貢献します。