2009年12月 1日 - 世界初 4項目全て自社センサー搭載

エネルギー変換効率の安定化に寄与

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2009年7月31日 - 社外の「分析計測技術」研究者の奨励賞

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2009年3月27日 -  「半導体材料表面コンタミネーションの高感度・非破壊計測」

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2008年12月15日 - 半導体分野製品を仏から日本に移管

アジア中心に製造装置メーカー・生産ライン向け本格参入

国産品プラズマ発光分析エンドポイントモニターを販売開始

半導体ドライプロセスの生産性向上に貢献

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2008年8月29日 - 300ミリ時代の生産性向上を支援

半導体クリーンルーム内露光工程の

極微量アンモニアガス濃度をリアルタイム計測

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