2009年12月 1日 - 世界初 4項目全て自社センサー搭載 エネルギー変換効率の安定化に寄与

詳細


2009年7月31日 - 社外の「分析計測技術」研究者の奨励賞

詳細


2009年3月27日 -  「半導体材料表面コンタミネーションの高感度・非破壊計測」

詳細


2008年12月15日 - 半導体分野製品を仏から日本に移管 アジア中心に製造装置メーカー・生産ライン向け本格参入 国産品プラズマ発光分析エンドポイントモニターを販売開始 半導体ドライプロセスの生産性向上に貢献

詳細


2008年8月29日 - 300ミリ時代の生産性向上を支援 半導体クリーンルーム内露光工程の 極微量アンモニアガス濃度をリアルタイム計測

詳細


2007年7月 5日 - ハイテク産業のお膝元で開発  シリコンバレーに『ホリバテクノロジーセンター』を開設  トップシェアに向けた“米国戦略プロジェクト”本格始動

詳細


29 ~ 35 件を表示(全 44 件)

« 前へ

Page 1

Page 2

Page 3

Page 4

Page 5

Page 6

次へ »