ウェハ裏面圧力制御システム GR-300 series

概要

GR-300 Seriesは、ウェハ裏面の温度制御に不可欠なヘリウムガスやアルゴンガスなどの伝熱性ガスの圧力制御を安定性良く、高精度に行います。高速・高分解ピエゾバルブとマスフローセンサを搭載しており、正確・安定的に微差圧制御を行うのみならず、流量計測も可能です。

特長

  • 正確・安定供給
  • マスフローセンサを搭載
    マスフローコントローラで広く採用されているマスフローセンサを搭載し、材料ガス供給プロセスと同等の精度で実流量のモニタが可能。
  • マスフローコントローラと同等サイズ
    マスフローコントローラと同等のサイズ・継手に対応しているため同様の設計施工が可能。
  • RoHS指令に対応

製造会社: HORIBA STEC

外形寸法図・他(単位:mm)

Dimensions of GR-300 Series

アプリケーション

  • ウェハ裏面冷却
    プラズマCVD装置やエッチング装置などのプラズマプロセス中のウェハ裏面部の温度制御用に使用します。ウェハを積載するチャンバーにヘリウムガスまたはアルゴンガスなどの伝熱性ガスの流路(センタまたはエッジ)を設け、各々にGR-300を介して正確に圧力を制御し、ウェハ裏面部の温度制御システムが構築できます。またマスフローセンサにより、ガス流量を正確に監視します。
  • 搬送チャンバー内部の圧力制御
    真空成膜装置に置ける搬送チャンバー内部の圧力制御を行います。搬送チャンバーからのウェハの出し入れの際の大気圧復帰制御や真空復帰後の内圧制御など真空から大気圧の圧力コントロールを行います。
  • 原子層蒸着(ALD:Atomic Layer Deposition)プロセス
    ALDプロセス向けの圧力制御機器としても使用可能であり、各種ガスに関しても対応いたします。

価格は仕様により異なりますので、別途お見積もりいたします。「見積・資料・お問い合わせ」よりお申し込みください。尚、製品によりましては代理店をご紹介させていただくことがございます。

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