半導体製造プロセス
フォトルミナーDはシリコン中の微量不純物分析用途を目的として開発されました。シリコンは最もよく使用されている半導体です。フォトルミネッセンス法は品質管理に応用すぺく長年研究が行われてきました。1977年電子技術総合研究所の田島博士(現在：宇宙科学研究所)はシリコン中の不純物定量分析をフォトルミネッセンス法で評価する方法を開発されました。この方法によりシリコン中のB,P,Al,As...
フォトルミナーSは高感度な分光分析用PLシステムです。高感度測定はPL装置では重要です。第一に微弱なPL光を検出するためです。その他、励起光密度の増大によりPLスペクトルの形状が変化したり、励起光密度の変化によりPLスペクトルのピーク波長が変化するケースがあり、高感度測定装置であれぱ励起光密度の変化に対応しやすいと考えるからです。フォトルミナーSは高品質の集光レンズを採用しています。そしてソフトウェアにより測定波長と同期してレンズが移動し色収差の影響を無く...
カソードルミネッセンスMP-32S/Mは、サーマルタイプのフィールドエミッションSEMを使用し、今まで不可能だった微少領域における高空間分解能での評価を実現、サブミクロンの壁を突破しました。...
高スループットで効率的な異物検査・測定を実現。高い稼働率と長期にわたる安定性など、数々の高性能・高機能で多くの半導体製造現場で高く評価されているHORIBAのレティクル/マスク異物検査装置PDシリーズ。長期安定稼動する搬送系、高スループットなどの高性能機能を継承し、さらに独自に開発した信号処理方式により、シリーズ最高感度、最小0.35μmの微細異物検出を可能にしたのが、このレティクル/マスク異物検査装置PR-PD2です。各種のステッパーケースに対応する最大...
先端マスク検査の大幅コストダウンを実現
高い稼働率と長期にわたる安定性を誇るレティクル・マスク異物検査装置PDシリーズ。その高性能機能を継承し、さらにS/N比を3倍以上向上、実用感度を大幅に向上させて、シリーズ最新機種HORIBA...
高い稼働率と長期にわたる安定性で、多くの半導体製造現場から高く評価されているHORIBAの異物検査装置PDシリーズ。そのシンプルで長期安定稼働する搬送系、高スループット、信頼の光学系、さらに誤検出対策機能など高性能の数々を継承し、コンパクトにパッケージングしたのが、レティクル/マスク異物検査装置PR-PD3です。従来機(PR-PD2)と比べて約1/2という小型化を実現するとともに、低ランニングコストを追求。そして0.5μmの検出感度による広い汎用性。レティ...
PDシリーズの高性能を継承しながら、一層の小型化により、優れたコストパフォーマンスを実現。レティクルストッカやステッパ、洗浄装置などへの組み込みも可能です。
レティクル反転機構0.5ー50μm選択可能検査系1系統装置内蔵／組合せ型...
ブローと真空吸引で異物を自動除去レティクル／マスクに付着した異物をAir（又はN2）ブローと真空吸引により自動除去します。露光前のルーチン運用で、毎回異物を除去する事により、ペリクルの貼り替えやマスクの洗浄周期を延ばし、ランニングコスト低減に寄与します。
ガラス面上異物除去時（20μmホウ珪酸ビーズ除去率データ）...
2チャンネルタイプのHE-960RWは、新設計の温度測定回路を採用することにより、超純水や温純水の電気抵抗率（比抵抗）計測において重要な温度補償性能を飛躍的に向上させた、ハイグレードタイプです。
電子顕微鏡と組み合わせて微小領域の異物解析、組成分析に最適です。分析業務全体をわかりやすくサポートするフローチャート形式のナビゲータを搭載。高度な機能を使いやすく−これからのX線分析装置の姿です。...
10μｍの革命！X線を絞り込むX線導管が、観察・分析の世界を根底から変革します。異物分析・故障解析から文化財・貴重品の元素分析、有害元素管理の分析まで1台で幅広く対応。高純度Si半導体検出器搭載。
rf-GD-OES（GDS）分析装置は、Arプラズマにより試料をスパッタリングさせ、スパッタされた原子を原子発光させることで、元素分析を行う、迅速かつ簡単な表面分析装置・深さ方向元素分析装置として、薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの研究開発・生産技術・品質管理の分野において、幅広く活用されています。高周波方式グロー放電を採用しているため、非導電性試料でも表面分析が可能です。
CS-131は、半導体製造における洗浄工程のSC-1溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。パーティクルや有機物の除去に使われるSC-1溶液(NH3/H2O2/H2O)の各成分濃度を常時モニタします。モニタ出力を用いたフィードバック制御を行うことにより、SC-1溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な薬液交換をなくすことができます。また冷却器一体型もラインアップし、広範囲なサンプル温度範囲に対応しました。...
CS-152は、半導体製造における洗浄工程のSC-2溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。金属イオン除去に使われるSC-2溶液(HCl/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで自動補給するタイミングを知らせます。短い測定周期の実現により濃度変化に対しても忠実に追従し、またコンパクト設計により容易に洗浄装置へ組込むことができます。...
CS-150は、半導体製造における洗浄工程のSPM溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。レジスト剥離や有機物の除去に使われるSPM溶液(H2SO4/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで自動補給するタイミングを知らせます。高速応答、短い測定周期の実現により濃度変化に対しても忠実に追従し、またコンパクト設計により容易に洗浄装置へ組込むことができます。...
CS-137は、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。エッチング工程においてシリコン酸化膜のエッチング及びウエハ表面のパーティクル除去のために使われるBHF溶液(NH4F/HF/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりBHF溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。...
CS-153Nは、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。シリコン酸化膜のエッチングのために使われるHNO3/HF溶液(HNO3/HF/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりHNO3/HF溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。...
CS-153は、半導体ウェットエッチングプロセスの厳しいニーズに対応するため開発された高精度な薬液濃度モニタです。酸化膜とともに金属不純物を除去するために使われるFPM溶液(HF/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで薬液交換や自動補給するタイミングを知らせます。これによりFPM溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な溶液交換をなくすことができます。...
CS-139Eは、半導体製造における洗浄工程のTMAH/H2O2溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。パーティクルや有機物の除去に代替SC-1として使用されるTMAH/H2O2溶液(TMAH/H2O2/H2O)の各成分濃度を常時モニタします。モニタ出力を用いたフィードバック制御を行うことにより、TMAH/H2O2溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な薬液交換をなくすことができます。また冷却器一体型もラインアップし、広...
半導体特製造プロセスの厳しいニーズに対応するために開発された高精度なフッ酸濃度モニタです。電磁誘導方式導電率計の採用により、フッ酸濃度を測定し、リアルタイムに表示します。しかも、低濃度域においても高い再現性精度を実現。エッチングを含むウエハの洗浄工程におけるフッ酸濃度の管理をはじめ、フッ酸が利用されている様々な産業分野に幅広く対応します。...
工業用導電率計 HE-480Hは、高濃度タイプの導電率計で、ワイドレンジ測定が可能です。各種薬液の濃度管理から水耕栽培の液体肥料の濃度管理まで、幅広く対応します。
TMAH用導電率計 HE-960TMは、半導体・液晶プロセスで用いられるフォトレジスト現像液の主成分である、TMAH (Tetra Methyl Ammonium Hydroxide)溶液の導電率を高精度に測定します。
分析用途をさらに広げるコンパクトサイズ。FG-100Aシリーズは、地球温暖化防止のため削減が求められる温室効果ガス、PFCsをはじめ、各種半導体・FPDプロセスガスなどの多様な分析を可能にしたFTIRガス分析計です。
現場での効率的なガス計測を追求して、大幅なコンパクト化を実現するとともにシングルセルタイプとデュアルセルタイプの2種類をご用意。測定ポイントへの設置・移動が容易な上、分析用途も多彩です。
半導体・FPDプロセスガス分析に最適なソフトウェア...
各種プロセスのライン圧力制御に最適圧力制御設定信号の入力によりライン圧力の遠隔制御が可能高性能圧力センサとピエゾバルブを内蔵ウルトラクリーン対応のプロセスラインに最適...
2種類のレーザーで、SiN、SiO2、GaAs、InP、AlGaAs、GaNなどの幅広い膜種に対応。干渉式リアルタイム膜厚モニタはエッチング/成膜のプロセス中に膜厚、トレンチ深さを高精度に検出します。試料表面に当てられた単色光は薄膜の厚さや段差に応じた光路長差により干渉をおこします。干渉強度の時間変化をモニタすることで、その周期によりモニタ場所のエッチング/成膜速度を算出し、所定の膜厚、トレンチ深さでエンドポイントを決定できます。原理は比較的簡単なため安定...
GaN、AlGaN、SiO2、SiNなどの薄く、透明度の高い薄膜に適します。干渉式リアルタイム膜厚モニタはエッチング/成膜のプロセス中に膜厚、トレンチ深さを高精度に検出します。試料表面に当てられた単色光は薄膜の厚さや段差に応じた光路長差により干渉をおこします。干渉強度の時間変化をモニタすることで、その周期によりモニタ場所のエッチング/成膜速度を算出し、所定の膜厚、トレンチ深さでエンドポイントを決定できます。原理は比較的簡単なため安定度が高く、かつ複雑な多層...
プラズマを利用した半導体薄膜プロセスにおいて、エンドポイントの検出またはプラズマのコンディション管理を行うための、発光分析方式のエンドポイントモニタです。新開発のアルゴリズム“Rupture...
比較的広範囲の工場廃液に含まれるフッ素イオン濃度を連続測定する装置です。JISに採用されたイオン電極法により、フッ素イオンが安定に存在するpH5〜6に試料水を調節したのち、フッ素イオン濃度を高精度に連続測定します。校正、洗浄はすべて自動的に行います。機構が単純化され、保守項目が少なく、作業も容易にできます。浄水場のような低濃度(0.01〜1ppm)試料水から、工場排水の高濃度(10〜1,000ppm)試料水まで広範囲に適応できるよう、各種測定レンジを用意し...
ローコストで「規制」をクリアする。新型TPNA-300誕生。第5次水質総量規制で測定しなければならない全窒素・全りん。この新たな規制に、長年の環境分析の経験と高い技術力から、メンテナンス性やコストで優位な紫外線酸化分解法を提案したHORIBA。その実ニーズに沿った発想を強化して、メンテナンスの手間やランニングコストを大きく低減したTPNA-300が誕生しました。クリアしなければならない規制をメンテナンスとコストからアプローチする。環境分析のHORIBAだか...
