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CMPプロセス粒子計測

CMPプロセス粒子計測
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レーザ回折/散乱式粒度分布測定装置 LA-920

レーザ回折/散乱式粒度分布測定装置 LA-920

従来モデルも継続サポート。旧機種LA-910モードも装備。

レーザ回折/散乱式粒子径分布測定装置 Partica LA-950V2

レーザ回折/散乱式粒子径分布測定装置 Partica LA-950V2

世界最速分析。1サンプル60秒測定。分散媒の注入→サンプリング→測定→洗浄→データファイルまでを完璧にこなします。

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