液体材料気化システム MI/MV series
概要
半導体デバイスの高速・高密度化にともない、デバイス構造の微細化のみならず材料の置き換えによる対応や生産性向上をめざして300mmウェハプロセスの導入が行われています。この動向にともない、半導体プロセスに用いられる“液体材料”においても多様化と大流量化が進んでいます。 弊社の液体材料気化システムはプロセスに応じた液体材料気化デバイス（インジェクション方式、ベーキング方式）と、液体材料シリンダーから安全に迅速に気化デバイスへ材料供給を行うリチャージシステムをもラインアップし総合的なシステムをご提供しています。
特長
- 気液混合気化方式により、高沸点液体材料の安定気化が実現
- 高効率気化方式により、自己分解材料の安定気化が実現
- 低温度・大流量発生が可能
- コンパクトな気化システムの構築が行え、理想的なレイアウトデザインが可能
- RoHS指令対応
液体材料気化システムをトータルにサポート
プロセスに応じた液体材料気化システム（インジェクション方式、ベーキング方式）へ、液体材料マザータンクから安全に迅速に液体材料を自動供給する総合的なシステムをご提供しています。
液体材料を“安全に”“無駄無く”“迅速に”気化システムへ自動に供給
製造会社: HORIBA STEC
仕様
型式 | MI-1000 | MV-1000 |
|---|---|---|
対応液種 | HCl.HF等のステンレスを腐蝕する液体を除く | |
接ガス部材質 | SUS316L,PFA | |
設定温度 | Max 140℃ | Control Valve: Max 140℃ |
使用温度センサ | 熱電対 K タイプ(CA) | 熱電対 K タイプ(CA) |
リーク規格 | 1×10-8 Pa·m3/s (He) 以下 | |
内部リーク規格 | 1×10-6 Pa·m3/s (He) 以下 | |
標準継手 | 液体入口:1/8VCR タイプ Male、 ガス入口:1/4VCR タイプ Female、 ガス出口:1/4VCR タイプ Male | 液体入口:1/8VCR タイプ Male、 キャリアガス入口:1/4VCR タイプFemale、ガス出口:1/2VCRタイプ Male |
使用可能周囲温度 | 15℃ 〜 50℃ | 15℃ 〜 50℃ |
耐圧 | 1.0MPa (G) | 1.0MPa (G) |
オプション | 空圧弁(内部リーク規格：1×10-9 Pa·m3/s (He) 以下) | |
※発生流量については、ご使用になる“液体材料”“発生量”“発生条件”等により違いが生じます。別途お打合せの上最適なモデルをご提案いたします。
※本体内部に加温ヒータ、温度センサ、スイッチを搭載しています。仕様については別途ご確認ください。
外形寸法図・他（単位：mm）
