ガス濃度モニタ
半導体製造の成膜プロセスは、微細加工の進歩に伴い、処理後のチャンバを常にクリーンな状態に保つことが、生産性向上に重要とされています。IR-200は、チャンバークリーニングプロセスにおいて、クリーニングガスとして広く利用されているフッ素系ガスとシリコンとの反応生成ガスであるSiF4ガス濃度をリアルタイムにモニタリングし、クリーニング終点の判別に寄与します。...
分析用途をさらに広げるコンパクトサイズ。FG-100Aシリーズは、地球温暖化防止のため削減が求められる温室効果ガス、PFCsをはじめ、各種半導体・FPDプロセスガスなどの多様な分析を可能にしたFTIRガス分析計です。
現場での効率的なガス計測を追求して、大幅なコンパクト化を実現するとともにシングルセルタイプとデュアルセルタイプの2種類をご用意。測定ポイントへの設置・移動が容易な上、分析用途も多彩です。
半導体・FPDプロセスガス分析に最適なソフトウェア...
“生成異物”“HAZE”対策の1stステップ！研究開発から生産工程でのモニタリングまでトータルサポート。微細化の進む半導体製造プロセスでは、ますます厳しい工程管理が求められています。特に最近の露光工程(リソグラフィープロセス)では、プロセス雰囲気の厳密な管理が求められ、Haze問題(マスク表面の生成異物や露光装置内レンズ表面の曇り問題)の原因のひとつとされている微量アンモニアガスの管理が必要となってきています。そのため、従来の測定手法では測定困難な極低濃度...
インラインガスモニタ IR-150シリーズは、NDIR法(非分散型赤外吸収法)を用いた半導体ガス濃度モニタです。化合物半導体製造プロセスで使用される液体材料 TMAI、TMGa、TMIn、DEZn...
IPA(イソプロピルアルコール)は、半導体製造のウェット洗浄プロセスにおける乾燥工程で広く利用されています。近年、半導体製造プロセスでは、ウエハサイズの大口径化や微細加工の進歩に伴い、各種洗浄装置やCMP装置などのIPA乾燥プロセスにおけるIPAガス濃度の管理が、生産性向上のため特に重要視されてきています。HORIBAは、SC-1、SC-2をはじめとする各種の薬液濃度モニタや、マスフローコントローラをはじめとするガス及び液体材料の供給システムなどで培ったウ...