全自動薄膜計測システム FF-1000

次世代FPDにおける最先端の計測ニーズに対応

・TFTにおけるアモルファスシリコン、低温ポリシリコンや有機ELなど次世代FPDにも対応
TFTにおけるアモルファスシリコン、低温ポリシリコンや技術的な飛躍がもっとも期待される有機ELなど、次世代FPDの製造工程にも対応しています。

・第8世代大型ガラス基板も測定可能
2m角以上の大型ガラス基板など、各種基板サイズに対応しています。
*より大きなサイズについてはお問い合わせください。

より高度な計測ニーズに応えるハイレベルな性能

・機械的振動のないPEM素子*を採用し、高速・高精度な測定を実現
　*フォトイラスティク・モジュレータ：光弾性変調素子
HORIBA JOBIN YVON社の分光エリプソメーターは、他社と異なりPEM素子を用いた位相変調方式を採用。外光の影響をほとんど受けないばかりか機械的振動もなく、高速・高精度な測定を実現します。

・TFT用の多層膜の計測が可能
248nm-830nmと短波長から長波長までの広範囲な波長域での膜厚測定・データ解析が行えます。

・100msの高速・高感度測定をはじめ、測定は2モードから選択可能
高度な評価を可能にしたモノクロモードと、高速測定モードを装備。高速測定モードでは、多波長同時測定ユニットにより、高感度で最小測定時間100msの高速測定を実現しています。

●多波長同時測定ユニット

現場ニーズに応えるイージー・オペレーションと機能性

・複雑な複合多層膜を全自動で解析するソフトウエアを搭載
　・屈折率、消衰係数の演算
　・光学定数や組成・均一性の測定・解析が可能

・Data management Software
工場のLANに接続することにより、オフィスにて測定結果をモニターすることが可能です。

・最新の自動化ラインにも対応可能
工場内のLANはもちろん、AGVやCIMなどの自動化ラインにも対応します。

・オプション
下記のオプションの取付けが可能です。
(1)干渉計 (2)接触角計 (3)透過率計 (4)4探針計

PEM素子を用いた位相変調方式

分光エリプソとは、物質の表面で光が反射するときの偏光状態の変化(入射と反射)を観測し、そこから膜厚や材質など物質に関する情報を求める方法です。

FF-1000は、位相変調方式の測定原理にPEM素子を用いた分光エリプソメーターを採用しています。図のように直線偏光はPEMを通すことで50KHzの周波数に位相変調された楕円偏光になります。そのため、わずか数ミリ秒の分解能でΨ、Δを決定することができます。測定時間1msと短いのは、PEMの特性とその高い周波数によるものです。またcosΔに加え、sinΔを検出することができるのでΔの精度が優れています。このことから、機械的振動もなく高速・高精度な測定が可能になりました。

■PEM原理図

■測定部構成図

操作画面/測定結果

●CIM Manager
CIM Manager画面でカセットのlot ID一覧を表示。測定したいlotの設定も簡単です。

●Sensor Manager
センサマネージャ画面で、測定条件、測定位置及び測定結果など測定情報をひと目で確認できます。

●DATA point
各測定ポイントをクリックすると、各測定点の詳細情報を確認できます。

●POINT view
測定パネル画面に表示される測定ポイントをクリックすることで、測定結果の確認が可能です。

●Measurement Data Trend
測定結果をトレンドグラフに表示可能。平均値、最大値、最小値、さらに標準偏差も自動計算します。

●低温ポリシリコンの測定結果(Low Temperature p-Si)

価格

価格は仕様により異なりますので、別途お見積もりいたします。
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