半導体製造プロセスにおける異物検出

レティクル/マスク異物検査装置 PD Xpadion


PD Xpadion

PD Xpadionは、光学/ステージ設計、さらに基幹ソフトウェアを含む全てのプラットフォームを一新。
高い稼働率と長期安定性はそのままに、操作性を大幅に向上しました。信頼性の高い光学系による「スキャン」、新規機能を加えた「レビュー」、革新的なセンサーとの組合せによる「アナライシス」といったオートメーションへの拡張機能を強化し Smart Factory対応を実現します。

特長

  • 光学系の組合せによる検出感度の変更
  • OHT、EFEM、マルチポート、マルチスロット対応
  • 検査データを再解析し検査レシピをスピーディに最適化
  • HORIBAが有する各種センサーとの連携も可能(ラマン分光、エリプソメトリー等)

 

事業セグメント: 半導体
製品分類: Metrology
製造会社: HORIBA, Ltd.

レティクル/マスク/ウェハ異物除去装置 RP-1


レティクル・マスクの各面、又はウェハ表面に付着した異物をCDA 又は N2ブローと真空吸引で自動除去が可能。除去した異物の再付着を防ぎます。

ランニングコストの低減
日常的な異物除去作業により、マスクの洗浄サイクル、ペリクルの交換サイクルを伸ばし、ランニングコスト低減に貢献します。異物検査装置:PD Xpadionと組合わせることで、より効率的なレティクル・ウェハ管理が可能です。

特長:
人為的ペリクル破損の防止
静電破壊防止
マスク洗浄周期を延ばしコスト削減に寄与


ガラス表面の5.0μm粒子を除去したテストデータ

事業セグメント: 半導体
製品分類: Metrology
製造会社: HORIBA, Ltd.

RP-1

RP-1

マスク洗浄


薬液濃度モニタ

高速応答でコンパクトな薬液濃度計。使いやすく高度な薬液濃度モニタにより、レチクル/マスク洗浄中のプロセスドリフトを回避します。

マスク洗浄工程での洗浄液濃度をリアルタイムで測定し、プロセスの最適条件を維持・監視することができます。

薬液濃度モニタ
CS-100シリーズ

光ファイバ式
薬液濃度モニタ
CS-600F

非接触型
薬液濃度モニタ
CS-900

TMAH濃度モニタ
HE-960H-TM

低濃度HF/HCl/NH3
濃度モニタ
HF-960M

マスクエッチング


エンドポイント検出

独自のアルゴリズムを用いてプラズマ発光を解析し、マスクエッチング工程でのエッチングプロセスの終点を検出します。

プラズマ発光分析
エンドポイントモニタ
EV-140C

324 秒後の終点
Cr/ 石英インターフェイスに到達

マスク表面からのレーザー反射光の干渉信号を検知することにより、マスクエッチング工程でのエッチング終点を検出します。

レーザー干渉計
LEM Camera

ガス流量管理

マスクエッチング工程でのプロセスガスを制御するために、接ガス部をオールメタル構造にしたマスフローコントローラ。腐食性ガスに対する高い耐久性とデジタル通信制御を実現します。

デジタルマスフロー
コントローラ
SEC-Z500X

マスクストッカー


ガス制御

マスクストッカーのパージラインでのガス制御に最適なマスフローコントローラ。コストパフォーマンスに優れ、デジタル通信制御が可能です。

マスフロー
コントローラ
SEC-E500

デジタルマスフロー
コントローラ
SEC-N100

材料分析


ペリクルの厚さ測定

次世代ペリクルの厚さ、均一性の評価に最適です。

エリプソメータ
UVISEL Plus

異物同定

レチクル・ペリクル上の異物成分を分析。
AFM機能も搭載し、多彩な機能で異物分析をサポートします。

ラマン顕微鏡
XploRA Nano