Automatic pressure regulators

각종 프로세스의 라인 압력 제어에 최적압력 제어 설정 신호의 입력에 의해 라인 압력의 원격 조정이 가능고성능 압력 센서와 Piezo Valve를 내장UItra Clean 대응의 프로세스 라인에 최적

 

Exhaust pressure controller image

The EC-5000 series exhaust pressure controller can maintain a consistent pressure...

Compact Baking System LSC Series

TEOS를 시작으로 한 액체 재료의 기화 시스템으로, 다수의 납입 실적을 자랑하는 LSC 시리즈에 대유량 발생을 실현시킨 신모델입니다.종래와 같이  캐리어 가스를 이용하지 않고 액체 재료의 안정 기화를 행하는 신형의 LSC-A100 시리즈는, Compact Size면서 대유량 의 기화 발생을 가능하게 한 모델입니다.

 

Digital Auto Pressure Regulator

UR-Z700 series는 고정밀도 압력 센서, 고분해능·고속 응답의 Piezo Valve 를 탑재한 디지털 타입의Auto Pressure Regulator 입니다. 디지털 네트워크의 실현에 의해, 고도의 액체 재료 기화 시스템의 구축, 배선 단축화에 의한 심플한 가스 패널의 구축 등, 한층 더 높은 수준의 유체 제어 시스템이 구축이 가능해졌습니다.또, Ultra Clean 대응으로, 초고순도 가스...

Digital Liquid Mass Flow Meters/Controllers LF-F/LV-F series

반도체 디바이스의 고속·고밀도화에 따라, 디바이스 구조의 미세화 뿐만 아니라 재료의 이동에 의한 대응이나 생산성 향상을 목표로 해 300 mm 웨이퍼 프로세스의 도입을 하고 있습니다.이 동향에 따라, 반도체 프로세스에 이용되는“액체 재료”에서도 다양화와 대 유량화가 진행되고 있습니다. 폐사의 액체 재료 기화 시스템은 프로세스에 따라 액체 재료 기화 디바이스(Injection 방식, Baking 방식)와 액체...

Direct Injection System VC Series

반도체 Device의 고속·고밀도화에 따라, 디바이스 구조의 미세화 뿐만 아니라 재료의 치환에 의한 대응이나 생산성 향상을 목표로 300 mm웨이퍼 프로세스의 도입을 하고 있습니다.이 동향에 따라, 반도체 프로세스에 이용되는“액체 재료”에 있어 다양화와 대유량화가 진행되고 있습니다. 폐사의 액체 재료 기화 시스템은 프로세스에 응한 액체 재료 기화 디바이스(인젝션 방식, 베이킹 방식)와 액체 재료 실린더로부터...

Exhaust Pressure Controller EC-5000 Series

chamber의 내부 압력을 임의의 값에 일정하게 제어하는 배기압 Controller 입니다. 고분해능의 스테핑 모터와 독자 구조의 버터플라이 밸브에 의해 고속 응답·고분해  성능을 실현하고 있습니다.

 

High Precision Film Flow Meter

고정밀도 정밀 막유량계는, 유리 체적관에 비누막감지기(실용 신안 등록)를 조합해 각종 가스의 유량을 정밀하게 측정하는 것입니다.유리 체적 관내(기존 체적)를 비누막이 이동하는 시간을 측정해, 그 때의 대기압, 기온등의 값으로부터 가스의 유량을 산출합니다.측정하는 가스의 유량에 의해 4 종류의 유리 체적관 unit(VP-U시리즈)를 갖추고 있습니다.SF-2 U는 본체 내부에 대기압 센서를 내장하고 있으므로...

Precision Soap Film Flow Meter

High precision flow rate measurement with one-touch operation.

High Temperature Digital Mass Flow Controller SEC-8000 F/D Series

SEC-8000F/D series 는 종래의 고온환경대응Mass Flow Controller의 Digital 제어회로를 탑재한 모델입니다. Digital Network의 실현함과 동시에 지능화 가스Valve의 구축, 배선감소에 따른 소형화한 가스 판넬의 구축 등 다양한 기체 및 액체 시스템이 구축 가능해 졌습니다. 또 종래 제품의 성능 향상 및 폭넓은 프로세스에 대응하고 있습니다.