分光エリプソメーターUVISEL2
分光エリプソメーターUVISEL2

Outline

  • 分光エリプソメータの概要
  • 成膜条件
  • 解析モデルとは
  • 透明基板の解析
  • ITO膜の解析
  • 有機多層膜の解析
  • まとめ

分光エリプソメータの概要(HORIBA Jobin Yvon製)

分光エリプソメータは入射光と反射光の偏光の変化を測定し、その結果から 膜厚や屈折率、消衰係数を求めることが出来る装置である。 解析はサンプル構造のモデルを立てて測定したスペクトルとモデルから算出 されるスペクトルを合わせる手法である。

主な特徴

  • 非破壊
  • 超薄膜解析(1nmレベル)
  • 多層膜解析(各層の膜厚と屈折率を解析)

成膜条件

各層の精度を高めるため、成膜ごとのサンプルを準備

Glass
Glass/ITO
Glass/ITO/α-NPD
Glass/ITO/α-NPD/TBADN
Glass/ITO/α-NPD/TBADN/Alq3

*成膜条件*

・レート:2Å/s
・アネルバ製3チャンバー式蒸着装置
蒸着源-基板間距離400mm
基板加熱なし
蒸着源:窒化アルミ製るつぼ

サンプル提供:山形大 城戸研

続きを見る 


HORIBAの有機EL分析装置ラインナップ