체임버클리닝종점검지가스농도 모니터 IR-200

개요

반도체 제조의 성막 프로세스는, 미세 가공의 진보에 수반해, 처리 후의 챔버를 항상 깨끗한 상태에 유지하는 것이, 생산성 향상에 중요해지고 있습니다.IR-200은, 체임버 클리닝 프로세스에 대하고, 클리닝 가스로서 이용되고 있는 불소계 가스와 실리콘과의 반응 생성 가스인 SiF4 가스 농도를 리얼타임에 모니터링 해, 클리닝 종점의 판별을 합니다.

기능

  • 컴팩트 설계, 배기 라인에의 편성

  • 가스 가열에 대응(최대: 150℃)


제조원 HORIBA

사양

모델

IR-200

측정가스

SiF4

측정농도범위

0~5000ppm(0~500Pa)

반복성

±1%F.S.

가스셀광로길이

30mm

응답속도

T90: 30초 이하

가스셀광내압력

0.3MPa(G)

가스셀광가열온도

150℃(최대)

가스잡촉부재질

SUS-316L、BaF2、FKM

리크레트

1×10-10Pa・m3/s

배관

NW25플랜지

 아날로그출력

DC 4-20mA

접점출력

ERR、High、Low알람의 3채널

접점일력

제로 교정용으로서 1채널

전원

DC 24V、30W(최대)

외형치수

센서유니트: 150×268×90mm

컨트롤유니트: 96×130×48mm

질량

센서유니트:약4.5kg

컨트롤유니트:약0.5kg