HORIBA — один из крупнейших производителей контроллеров массового расхода газа и жидкости, предлагающий ассортимент аналоговых, цифровых и высокотемпературных контроллеров массового расхода, а также испарительных систем охлаждения и подачи жидких источников.

HORIBA способна обеспечить критический контроль, необходимый для успешной работы ваших производственных линий, в том числе в области газофазного химического осаждения, атомно-слоевого осаждения, эпитаксии из газовой фазы на основе металлоорганических соединений, физического осаждения из паровой фазы, плазмохимического осаждения из паровой фазы и алмазного напыления. Мы предлагаем широкий ассортимент приборов для контроля жидкостей и технологических процессов, позволяющих увеличить прибыльность, повысить производительность и сэкономить время и средства в ходе нанесения покрытий.

В распоряжении HORIBA — один из самых маленьких в мире квадрупольных масс-спектрометров, что позволяет производить работы при намного более высоком давлении (1 Па) по сравнению с более традиционными системами. Это приводит к снижению необходимости использования дополнительного насосного оборудования.

Film Coating Film Coating Film Coating Film Coating Image HTML map generator
Glass Coating Image HTML map generator

Сопутствующая продукция

Массовые расходомеры / контроллеры массового расхода

SEC-R100 Series

Digital Mass Flow controller focuses on non-semiconductor applications. Has digital (PROFIBUS) /analog communications, 24 VDC power supply, high accuracy +/- 1.0% S.P. with high performance Solenoid Valve, and Multi Gas/Multi Range function for the nine most popular gases used in the applications.

Компактные анализаторы технологического газа

Compact Process Gas Monitor MICROPOLE System

Compact process gas monitor using quadrupole mass spectrometer. Monitors trace gases, responds quickly to process shift . Easy to install and maintain.

Плазменные эмиссионные контроллеры

Plasma Emission Controller RU-1000

Excellent Plasma Control over Reactive Sputtering.

The superb feedback control of the reactive gas flow in a reactive sputtering process helps you enhance product quality and achieve greater productivity by monitoring the plasma generated by sputtering or the voltage of the power supply for the sputtering process.