HORIBA содействует развитию различных технологий анализа, контроля и оценки для процессов производства кремниевых полупроводников -- отрасли, в которой необходимо выполнять строгие технические требования.

HORIBA использует эти технологии в полном объеме в процессе производства плоскоэкранных дисплеев. Они позволяют осуществлять различные производственные процессы, в том числе определять состав газов и жидких лекарственных препаратов, обнаруживать частицы в масках и измерять тонкопленочные покрытия. Эти технологии также применяются при использовании высокопроизводительного аналитического и контрольного оборудования, обеспечивающего опытно-исследовательские задачи в области плазменных дисплейных панелей, органических электролюминесцентных индикаторов и дисплеев с автоэлектронной эмиссией, а также в разносторонне развивающейся сфере производства плоскоэкранных дисплеев.

FPD Process

Сопутствующая продукция

Различные этапы процесса производства полупроводников перечислены ниже. Выберите этап, чтобы увидеть список продукции, имеющейся в ассортименте на этом этапе.

Анализ деионизированной воды/аналитический контроль стоков

Highly Sensitive Silica Monitor SLIA-300

Measure the ultra-low density of silica at the finest sensitivity of 0.01 µg/L (0.01 ppb).

Анализ материалов

GD-Profiler

The GD-Profiler 2™ provides fast, simultaneous analysis of all elements of interest including the gases nitrogen, oxygen, hydrogen and chlorine. It is an ideal tool for thin film characterization and process studies.

LabRAM HR Evolution Raman Microscope

High spectral resolution analytical Raman microscope for ultimate performance and flexibility; includes UV Raman configuration, full automation and wide range of accessories.

XGT-7200

Single point analysis and automated hyperspectral imaging.

Dual vacuum modes.

Spot sizes from 1.2 mm to 10 µm.

Перенаправление на страницу Концентрация Мониторы Химическая

Контроль жидкостей

Анализатор концентрации газов

Vapor Concentration Monitor IR-300

In-line compact vapor concentration monitor, enables MOCVD precursor delivery to be stable.

Приборы для анализа технологического газа

Compact Process Gas Monitor MICROPOLE System

Compact process gas monitor using quadrupole mass spectrometer. Monitors trace gases, responds quickly to process shift . Easy to install and maintain.

Тонкопленочный контроль/анализ

Optical Emission Spectroscopy Etching End-point Monitor EV-140C

Emission analysis type end-point monitor intended for end-point detection or plasma condition control in the plasma-based semiconductor thin-film process.

New Uvisel 2

The ultimate solution to every challenge in thin film measurement

Процесс химико-механической полировки

LA-960

The LA-960 uses Mie Scattering (laser diffraction) to measure particle size of suspensions or dry powders. The speed and ease-of-use of this technique makes it the popular choice for most applications.