Система обнаружения частиц

HORIBA предлагает ниже системы обнаружения частиц в процессе литографии передовых в производственном рынке полупроводников , и они широко используются . Эти продукты обнаружить частицу на визирной / маску с высокой номинальной эксплуатации и долгосрочной стабильности . Они измеряет частицы на каждой из стекла / поверхности зубного налета с высокой пропускной способностью , что способствует выход улучшений для любой полупроводниковой производственной линии . Мы также предоставляем Remover частиц , которые можно использовать в сочетании с системой обнаружения частиц.

Пробелы маска системы обнаружения частиц

Blanks Mask Particle Detection System PR-PD2BLI

High speed and high accuracy inspection for blanks mask

Система обнаружения частиц / Маска Перекрещение

PR-PD2HR Particle detection system

Achieves dramatic cost reductions in advanced mask inspections

HORIBA's PR-PD2 Particle Detection System

High sensitive particle detection down to 0.35µm.

PR-PD5 Particle detection system

For use in combination with Manufacturing Devices. Low-cost reticle/mask particle inspection with enhanced versatility and compactness.

Compact Reticle/Mask Particle Detection System PR-PD3

Low running costs thanks to a compact design, plus remarkable versatility

Перекрещение / Маска для удаления частиц

Reticle/Mask Particle Remover RP-1

Automatically removes particles by blow and vacuum suction