平场成像光栅-Type IV

OEM光栅设计和生产能力

HORIBA Scientific 生产范围广泛的全息母版光栅,用于制造高精度复制品。 IV 型像差校正平场和成像光栅旨在将光谱聚焦到平面上,使其非常适合与线性或二维阵列探测器一起使用。

这些光栅由既不等间距也不平行的凹槽制成,并经过计算机优化以在探测器平面上形成近乎完美的入口狭缝图像。

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事业部: 科学仪器
制造商: HORIBA France SAS
  • 全息像差校正母版光栅的复制光栅

  • 全息母版光栅可以通过离子束蚀刻方法进行闪耀,以提高效率

  • 适用于坚固、紧凑和低杂散光的光谱仪

  • 多种光栅可选(目录中未列出多种可选光栅资料)

  • 线色散:从几纳米/毫米到 100 纳米/毫米以上

  • 宽光谱范围:从紫外到红外

  • 镀膜:铝或金


图 1: 此图显示了“超级校正光栅”将两个独立源成像到两个独立线性阵列上。 光谱 1 是狭缝 1 的“样本光谱”,光谱 2 是狭缝 2 的参考光谱。这些“狭缝”可能是光纤输入

HORIBA Scientific 还提供多种使用这些光栅的产品:光谱仪和高光谱相机


图 2:  光谱仪的典型应用

产品管理和质量

  • ISO 9001 和 ISO 14001 认证
  • 独特的激光打标可追溯性
  • 先进的计量
  • 产品综合分析研究
  • 母光栅的洁净室存储
  • RoHS / REACH 合规产品
 

客户导向和保密

  • 保密协议
  • 年度大批量订单
  • 协同设计的长期合作关系
  • 三个生产基地
 

 

  • 光谱范围:从 170 到 4180 nm

  • 平均色散 (nm/mm) : 从 1 到 106 nm/mm

  • 针对 UV、Vis 或 NIR 优化的衍射效率

  • 曲率半径:从 58 到 330 毫米

  • 尺寸从 25 x 25 毫米

  • 对于需要更大尺寸的客户,HORIBA可以定制一个专门用于复制的全息光栅母版。


图 3: 典型的理论效率曲线:533 02光栅,285l/mm, 190-800nm


*此效率曲线是绝对理论效率,使用严格的电磁理论计算,并考虑到使用原子力显微镜 (AFM) 测量的制造光栅的真实凹槽轮廓。

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