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Flat Field and Imaging Gratings - Type IV Catalog
平场成像光栅-Type IV
OEM光栅设计和生产能力
HORIBA Scientific 生产范围广泛的全息母版光栅，用于制造高精度复制品。 IV 型像差校正平场和成像光栅旨在将光谱聚焦到平面上，使其非常适合与线性或二维阵列探测器一起使用。
这些光栅由既不等间距也不平行的凹槽制成，并经过计算机优化以在探测器平面上形成近乎完美的入口狭缝图像。
全息像差校正母版光栅的复制光栅
全息母版光栅可以通过离子束蚀刻方法进行闪耀，以提高效率
适用于坚固、紧凑和低杂散光的光谱仪
多种光栅可选（目录中未列出多种可选光栅资料）
线色散：从几纳米/毫米到 100 纳米/毫米以上
宽光谱范围：从紫外到红外
镀膜：铝或金
图 1: 此图显示了“超级校正光栅”将两个独立源成像到两个独立线性阵列上。 光谱 1 是狭缝 1 的“样本光谱”，光谱 2 是狭缝 2 的参考光谱。这些“狭缝”可能是光纤输入
HORIBA Scientific 还提供多种使用这些光栅的产品：光谱仪和高光谱相机。
图 2: 光谱仪的典型应用
产品管理和质量
| 客户导向和保密
|
光谱范围：从 170 到 4180 nm
平均色散 (nm/mm) : 从 1 到 106 nm/mm
针对 UV、Vis 或 NIR 优化的衍射效率
曲率半径：从 58 到 330 毫米
尺寸从 25 x 25 毫米
对于需要更大尺寸的客户，HORIBA可以定制一个专门用于复制的全息光栅母版。
图 3: 典型的理论效率曲线：533 02光栅，285l/mm, 190-800nm
*此效率曲线是绝对理论效率，使用严格的电磁理论计算，并考虑到使用原子力显微镜 (AFM) 测量的制造光栅的真实凹槽轮廓。
