刻划平面光栅

OEM光栅设计和生产能力

HORIBA Scientific 生产范围广泛的刻划母版光栅,用于制造高精度复制品。

刻划反射光栅特别适用于需要高效率、高分辨率和覆盖从紫外到红外光谱范围的光谱系统。

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事业部: 科学仪器
制造商: HORIBA France SAS
  • 刻划母版光栅的复制光栅

  • 绝对效率高

  • 基材:熔融石英、微晶玻璃、派热克斯玻璃……

  • 刻线密度:从 20 到 1800 gr/mm

  • 宽光谱范围:从紫外到红外

  • 可用尺寸:多种标准参考尺寸,最大尺寸可达120x140x20毫米

  • 镀膜:铝


图1:  刻划光栅装置

产品管理和质量

  • ISO 9001 和 ISO 14001 认证
  • 独特的激光打标可追溯性
  • 先进的计量
  • 产品综合分析研究
  • 母光栅的洁净室存储
  • RoHS / REACH 合规产品

客户导向和保密

  • 保密协议
  • 年度大批量订单
  • 协同设计的长期合作关系
  • 三个生产基地

 

  • 刻线范围为 120 至 1800 g/mm

  • 光谱范围:从 190 纳米到 45 微米

  • 针对 UV、Vis 或 IIR 优化的衍射效率

  • 尺寸:从 25x 25 毫米到 120 x140 毫米

  • 对于需要更大尺寸的客户,HORIBA可以定制一个专门用于复制的全息光栅母版


图 2: 典型的理论效率曲线:510 93光栅,900l/mm, 300-800nm

*此效率曲线是绝对理论效率,使用严格的电磁理论计算,并考虑到使用原子力显微镜 (AFM) 测量的制造光栅的真实凹槽轮廓。

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