刻线范围为 120 至 1800 g/mm
光谱范围:从 190 纳米到 45 微米
针对 UV、Vis 或 IIR 优化的衍射效率
尺寸:从 25x 25 毫米到 120 x140 毫米
对于需要更大尺寸的客户,HORIBA可以定制一个专门用于复制的全息光栅母版
图 2: 典型的理论效率曲线:510 93光栅,900l/mm, 300-800nm
*此效率曲线是绝对理论效率,使用严格的电磁理论计算,并考虑到使用原子力显微镜 (AFM) 测量的制造光栅的真实凹槽轮廓。
OEM光栅设计和生产能力
HORIBA Scientific 生产范围广泛的刻划母版光栅,用于制造高精度复制品。
刻划反射光栅特别适用于需要高效率、高分辨率和覆盖从紫外到红外光谱范围的光谱系统。
如您有任何疑问,请在此留下详细需求信息,我们将竭诚为您服务。 * 这些字段为必填项。