GD-Profiler 2™辉光放电光谱仪

用辉光放电光谱仪去发现一个崭新的信息世界

GD-Profiler 2™ 可以快速、同时分析所有感兴趣的元素,包括气体元素N、O、H和Cl,是薄膜和厚膜表征和工艺研究的理想工具。

GD-Profiler 2™ 配备的射频源可在脉冲模式下对易碎样品进行测试,广泛应用于高校以及工业研究实验室,其应用范围有腐蚀研究、PVD 涂层工艺控制、PV 薄膜开发以及LED 质量控制等。

事业部: 科学仪器
制造商: HORIBA France SAS

  • 射频发生器是 E 类标准,对稳定性和溅射坑形状都进行了优化以满足实时表面分析。

  • 射频源可以分析传统和非传统镀层和材料,对于易碎样品,还可以使用脉冲式同步采集优化测试。

  • 从 110nm到 800nm 同步全光谱覆盖,包括分析 H、O、C、N 和 Cl 的深紫外通道。

  • HORIBA 研发的离子刻蚀型全息光栅具有高的光通量和光谱分辨率,光学效率和灵敏度都表现优良。

  • HDD 探测器兼具检测速度和灵敏度。

  • 内置的微分干涉仪DIP可实时测量溅射坑深度和剥蚀速率。

  • 宽敞简洁的大样品仓易于装卸样品,操作简单。

  • QUANTUM™ 软件配置了Tabler 报告编写工具。

  • 专利激光中心定位装置(专利号:Fr0107986/国际专利种类:G01N 21/67)可定位样品测试位置。

 HORIBA 的辉光放电光谱仪可以选配单色仪,实现n+1元素通道的同时也提高了设备的灵活性。

 

  • 辉光源结合超快速、高分辨的同步光学器件,可对导体、非导体和复合材料进行快速元素深度剖析。

  • 适用于薄膜和厚膜——从纳米到数百微米,且具有纳米级深度分辨率。

  • 典型应用领域包括光伏、冶金、LED 制造、腐蚀研究、有机和微电子、材料研发、沉积工艺优化、PVD、CVD、等离子涂层、汽车、锂电池等。

  • 不需要超高真空

  • 使用高动态探测器可以测量所有感兴趣的元素(包括 H、D、O、Li、Na、C、N 等)。

  • 可选附件单色仪配备的也是高动态探测器,可在image模式下做全谱扫描,极大的增加了设备的灵活性。

  • 脉冲式射频源,可选择在常规射频模式和脉冲式射频模式下工作,且可全自动匹配。

  • 辉光源采用差速双泵真空系统,可为SEM制备样品。

  • 内置等离子清洗功能。

  • 超快速溅射模式UFS可快速分析聚合物和有机材料。

  • 内置的微分干涉仪DIP,可直接在线测定深度。

  • 用于异形样品测试的各种铜阳极和附件。

  • Windows 10 软件 – 为远程安装提供多个副本

脉冲式射频GD-OES分析含有金属和金属氧化物纳米颗粒的薄膜
脉冲式射频GD-OES分析含有金属和金属氧化物纳米颗粒的薄膜
HORIBA Scientific 是法国研究项目的合作伙伴,在同一个腔室中将纳米粒子喷雾耦合到 PVD 生长层上。许多关于这类新材料的研究都使用脉冲式射频 GD-OES 来分析颗粒的深度分布和复合层的厚度。
脉冲式射频 GD-OES表征锂电池电极的特点和优势。
脉冲式射频 GD-OES表征锂电池电极的特点和优势。
锂电池是一种可充电电池,通过锂离子在阳极和阴极之间迁移,产生电流。无论您是研究新电极、涂层行为、充电和放电过程、过程控制,还是对锂电池进行性能比较研究,脉冲式射频GD-OES都是有价值的测试工具。
射频GD-OES 测定氢和氘
射频GD-OES 测定氢和氘
射频GD-OES 因对薄膜和厚膜的超快元素深度分布而闻名,可以测量所有元素,包括氢 (H),这在许多应用领域都很重要 ,比如用于腐蚀研究、光伏、冶金、储氢材料的开发以及所有聚合物涂层研究等。H 最敏感的发射线位于VUV 范围内的121,567 nm。
GD-OES,磁控溅射薄膜沉积分析的配套工具
GD-OES,磁控溅射薄膜沉积分析的配套工具
脉冲式射频 GD-OES 是磁控溅射沉积的理想配套分析工具。磁控溅射是等离子气相沉积的一种,PVD镀膜机的真空室充满惰性气体(例如氩气),通过施加高电压(RF、HIPIMS 等)产生辉光放电,离子加速到目标表面和等离子涂层,氩离子溅射靶材表面材料,从而在衬底上形成膜层。
脉冲式射频 GD-OES 对有机和有机/无机多层复合材料深度剖析
脉冲式射频 GD-OES 对有机和有机/无机多层复合材料深度剖析
文中展示了脉冲式射频 GD-OES 分析聚合物层和有机/无机复合薄膜的实例,说明了GD-OES在此应用领域的可行性。由于采用了脉冲式射频源和专利超快速溅射UFS(专利号:专利号:FR50829322;EP2434275A1),使GD-OES在先进有机多层材料的多维表征方便发挥除了优势。GD-OES分析速度快,易于操作,测试区域大,可以观测所有元素,对于此类研究非常有利。
你知道保护手机屏幕的材料是什么吗
你知道保护手机屏幕的材料是什么吗
利用脉冲式射频GD-OES可快速实现对塑料薄膜制造过程的优化和跟踪。GD Profiler2通过快速检测缺陷和污染物的存在,比较不同批次的产品,成为优化和跟踪制造过程的关键工具。此外,结合UFS模式被证实是一种灵活的分析有机和混合材料的技术,由此开辟了许多新的应用领域。
手机贴膜是什么材料?拉曼和 UFS-GD-OES 共同表征聚合物保护层的深度信息
手机贴膜是什么材料?拉曼和 UFS-GD-OES 共同表征聚合物保护层的深度信息
脉冲式射频GD-OES与UFS相结合,可提供聚合物手机贴膜的超快速元素深度剖析。将GD-OES与拉曼光谱 z轴 扫描相结合,可以获得智能手机贴膜制造的重要信息。
如何分析电镀涂层?
如何分析电镀涂层?
脉冲式射频GD-OES可以用于研究不同的电镀样品。光斑尺寸的灵活性、脉冲射频源以及微分干涉仪的引入使射频GD-OES 成为电镀行业的关键技术。
MoS2/Pb 纳米复合涂层在固体润滑剂的应用
MoS2/Pb 纳米复合涂层在固体润滑剂的应用
脉冲式射频GD-OES的超快元素深度分析能力,常用于研究薄膜和厚膜。由于使用了脉冲射频源和高分辨率光谱仪,GD Profiler 2具有出色的深度分辨率,可以快速评估涂层质量。在本应用中我们剖析用作固体润滑剂的 MoS_2/Pb 复合多层样品。对此类样品的分析表明:GD Profiler 2在研究纳米级厚度的复合涂层时具有出色的性能。
HORIBA 钙钛矿太阳能电池表征解决方案
HORIBA 钙钛矿太阳能电池表征解决方案
凭借20% 光电转换效率,混合钙钛矿太阳能电池被认为是下一代光伏的新星。HORIBA Scientific 拥有多种分析设备,因此可以使用不同的技术来深入了解这类材料的光电特性和机制。 在本应用中,我们利用椭偏、稳态和时间分辨荧光以及辉光放电光谱来研究沉积在旋涂 PEDOT:PSS 上的 CH3NH3PbI3 薄膜,并且讨论了材料暴露在空气中的影响

留言咨询

如您有任何疑问,请在此留下详细需求信息,我们将竭诚为您服务。 * 这些字段为必填项。

产品配件

GD-OES 软件
More GD-OES 软件

Quantum 和Image

GD-OES 附件
More GD-OES 附件

适用于各种形状、尺寸和特性的样品附件

Related products

Auto SE - 自动化薄膜测量工具
More Auto SE - 自动化薄膜测量工具

一键式全自动快速椭偏仪

EMGA-Expert
More EMGA-Expert

氧/氮/氢分析仪

EMGA-Pro
More EMGA-Pro

氧/氮/氢分析仪

FluoroMax
More FluoroMax

新一代稳瞬态荧光光谱仪

GD-OES 软件
More GD-OES 软件

Quantum 和Image

GD-Profiler 2™辉光放电光谱仪
More GD-Profiler 2™辉光放电光谱仪

用辉光放电光谱仪去发现一个崭新的信息世界

IG-331
More IG-331

光泽度计

IG-340
More IG-340

手持式光泽度计-新

IG-410
More IG-410

高光泽度计

LabRAM Odyssey
More LabRAM Odyssey

高速高分辨显微共焦拉曼光谱仪

UVISEL 2 VUV
More UVISEL 2 VUV

真空紫外椭偏仪

XploRA™ PLUS
More XploRA™ PLUS

拉曼光谱-共焦拉曼光谱仪

等离子体分析飞行时间质谱仪PP-TOFMS
More 等离子体分析飞行时间质谱仪PP-TOFMS

快速、灵敏、高分辨的深度剖析技术

Auto SE附件
More Auto SE附件

定制化专属设备

Auto Soft
More Auto Soft

Auto-Soft用户导向的分析界面-用于Auto SE和Smart SE

DataOverlay
More DataOverlay

化学和显微白光图像混合显示

DeltaPsi2软件
More DeltaPsi2软件

功能齐全的椭圆偏振光谱软件

DLC
More DLC

自动 DLC 涂层分析

EasyImage
More EasyImage

优化的分析流程

GD-OES 软件
More GD-OES 软件

Quantum 和Image

GD-OES 附件
More GD-OES 附件

适用于各种形状、尺寸和特性的样品附件

GD-Profiler 2™辉光放电光谱仪
More GD-Profiler 2™辉光放电光谱仪

用辉光放电光谱仪去发现一个崭新的信息世界

ICP Neo
More ICP Neo

ICP Software

ICP-OES
More ICP-OES

Complete your ICP-OES Spectrometer for your specific needs

Image Enhancement
More Image Enhancement

增强拉曼和光学图像

KnowItAll
More KnowItAll

拉曼光谱搜索

LabRAM Odyssey Nano
More LabRAM Odyssey Nano

纳米拉曼光谱仪

LabRAM Soleil Nano
More LabRAM Soleil Nano

纳米拉曼光谱仪

LabSpec 6: Validated performance
More LabSpec 6: Validated performance

LabSpec 6是经过验证的软件

MESA-50
More MESA-50

X 射线荧光分析仪

MESA-50K
More MESA-50K

X射线荧光分析仪

Methods
More Methods

调用设置,采集过程自动化

MultiPoints
More MultiPoints

多位置自动获取拉曼光谱

MVAPlus
More MVAPlus

适用于所有拉曼成像的多变量分析应用程序

OneClick
More OneClick

快速简单的拉曼采集

OpenPleX
More OpenPleX

高通量、开放式表面等离子体成像仪

Particle Finder
More Particle Finder

测试、识别和分类粒子

PP-TOFMS软件
More PP-TOFMS软件

符合人体工程学的软件,兼具数据采集,数据处理和技术支持

Script and ActiveX
More Script and ActiveX

使用VBS进行定制化

Si Stress
More Si Stress

自动硅应力分析

SmartSampling
More SmartSampling

将拉曼成像从几小时变成几分钟

Ultima Expert
More Ultima Expert

高分辨率,高灵敏度和高稳定性的电感耦合等离子体发射光谱仪

Ultima Expert LT
More Ultima Expert LT

高性价比的电感耦合等离子体发射光谱仪

UVISEL Plus In-Situ
More UVISEL Plus In-Situ

在线监控椭偏仪

XGT-9000
More XGT-9000

微区X射线荧光分析仪

XGT-9000SL
More XGT-9000SL

微区X射线荧光分析仪超大样品仓型

XploRA Nano
More XploRA Nano

纳米拉曼光谱仪

XploRA™ PLUS
More XploRA™ PLUS

拉曼光谱-共焦拉曼光谱仪

多变量分析
More 多变量分析

复杂数据集的数据分析

用户权限
More 用户权限

密码保护的用户访问控制

等离子体分析飞行时间质谱仪PP-TOFMS
More 等离子体分析飞行时间质谱仪PP-TOFMS

快速、灵敏、高分辨的深度剖析技术

EV 2.0 系列
More EV 2.0 系列

基于光发射光谱和 MWL 干涉测量法的工艺终点/反应腔健康监测

EV-140C
More EV-140C

光发射光谱蚀刻终点监测仪

GD-OES 软件
More GD-OES 软件

Quantum 和Image

GD-OES 附件
More GD-OES 附件

适用于各种形状、尺寸和特性的样品附件

GD-Profiler 2™辉光放电光谱仪
More GD-Profiler 2™辉光放电光谱仪

用辉光放电光谱仪去发现一个崭新的信息世界

RU-1000
More RU-1000

等离子体发射控制器

Corporate