掩膜蚀刻

蚀刻是半导体器件开发和制造中的关键工序。为了最大限度地减少工具之间、晶圆之间的差异和工艺参数漂移的影响,HORIBA提供多种智能传感器以提高机台产能。

领先的半导体工具制造商和器件制造商将其用于研发和生产线。我们的传感器不仅可以同时用于一个腔室控制不同工艺,还可以集成至多腔室集群。

主要优点

  • 接口处开放区域高于1%的稳健终点检测
  • 浅沟槽和深沟槽的纳米级精度深度控制
  • 易集成至工艺腔室
  • 多传感器和多腔室功能

 

质量流量控制器的气体接触部分采用全金属结构控制掩膜蚀刻的工艺气体。实现对腐蚀性气体的高耐受性,并且适用于各种数字通信控制。

终点监控

气体监控

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