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钻石 (MPCVD)

实验室培育钻石 (LGD) 的趋势是使用 MPCVD(微波等离子体 CVD)设备,该设备通过在基材上大量吸收碳 (C) 来人工生长钻石。它目前能够生产20克拉的钻石。当CH4和H2混合并被微波激发时,在真空容器中发生辉光放电。反应气体的分子被电离并产生等离子体。


在其CVD工艺中,使用了HORIBA的高质量气体流量控制技术,压力监测产品和压力控制解决方案。HORIBA 解决方案可确保钻石生长质量的一致性。

化学气相沉积(CVD)

化学气相沉积(CVD)是一种通常在真空下生产高质量、高性能固体材料的沉积方法。该工艺通常用于制造半导体和薄膜生产。

在典型的化学气相沉积中,基板接触一种或多种挥发性前驱体,前驱体在基板表面发生反应和/或分解,产生所需的沉积物。根据化学气相沉积的基本原理,化学气相沉积有一系列扩展工艺,最常见的有:

常压化学气相沉积法(APCVD)

低压化学气相沉积法(LPCVD)

超高真空化学气相沉积法(UHVCVD)

气溶胶辅助化学气相沉积法(AACVD)

直接液体注入式化学气相沉积法(DLICVD)

等离子体增强化学气相沉积积法(PECVD)

远程等离子体增强化学气相沉积法(RPECVD)

原子层沉积法

金属有机物化学气相沉积法(MOCVD)

VG-200S
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电容式压力计

EC-5000 系列
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排气压力控制器

EV 2.0 系列
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基于光发射光谱和 MWL 干涉测量法的工艺终点/反应腔健康监测

Micropole System QL Series
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Quadrupole Mass Analyzer

SEC-N100 系列
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数字式质量流量控制器

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