同步辐射、FEL 和 EUV 光栅

全息Lamellar光栅

HORIBA Scientific 全息Lamellar光栅具有超低的刻线粗糙度和独特的效率均匀性,使其成为同步辐射光源、自由电子激光器 (FEL)EUV 或软 X 射线光源的理想选择。

全息和离子刻蚀工艺使我们能够定制刻槽形状和分布,使其具有:

  • 等线距或可变线距 (VLS)

  • 等线距或可变刻槽深度 (VGD)

 

 

<< 返回 科研级光栅 

事业部: 科学仪器
制造商: HORIBA France SAS
  • 刻线密度:高达4000gr/mm

  • 尺寸:最大500mm

  • 基材:硅、熔融石英

  • 基板形状:平面、球形、圆柱形、环形

  • VLS 或等线距

  • 具有可变刻槽深度 (VGD) 的效率可调性

  • 面型误差 ~0.1µrad RMS 的高质量基板

  • 超低凹槽粗糙度:~0.2nm RMS

  • 镀膜:Au、Ni、Pt(其他镀膜应要求提供)

 

 

为了确认光栅的可行性,请提供如下的光栅规格:

• 基材

• 基板尺寸

• 有用区域

• 基材形状(平面、球形、……)

• 基材 RMS 显微粗糙度 (nm)

• 基材 RMS 面型误差(μrad 或 arcsec)

• 刻线密度:等线距或 VLS

 如果 VLS,N(x) =N0*(1+2*b2x+3*b3x2+4*b4x3+…)

Where :

N0 (mm-1) =

b2 (mm-1) = 

b3 (mm-2) =

• 刻槽形状

• 能量范围

• Cff 系数或入射角

• 镀膜

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如您有任何疑问,请在此留下详细需求信息,我们将竭诚为您服务。

* 这些字段为必填项。

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